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本发明涉及一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置及设备。溅射装置位于溅射设备中，基片位于溅射设备中进行直线式运动，当经过溅射装置时，可对基片进行溅射镀膜；溅射装置包括靶座，靶座内部设有两个溅射阴极，两个溅射阴极相对称设置；两个溅射阴极...
该专利属于杭州鼎能光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州鼎能光电科技有限公司授权不得商用。

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