一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀方法及系统技术方案

本发明专利技术公开了一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀方法及系统，本发明专利技术涉及半导体处理技术领域，该系统包括：激光光源模块，用于产生高重复率、可调激光功率、频率和光束扩散角的飞秒激光脉冲；光学路径控制模块，配置有光学元件组、光学元件对准系统、光束整形器及自适应光学元件，用于调整激光束的路径、聚焦和能量分布；其中，所述自适应光学元件包括可调变形镜和液晶空间光调制器。该钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀方法及系统，结合实时波前监测与畸变校正以及光学元件驱动系统，确保了光学路径的稳定性和一致性，解决了传统刻蚀方法难以在大面积薄膜上保持刻蚀的一致性和均匀性，导致器件性能的不稳定和降低的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体处理，具体为一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀方法及系统。

技术介绍

1、钙钛矿薄膜因其优异的光电性能和潜在的高效率，已成为太阳能电池领域的重要研究对象；然而钙钛矿薄膜在实际应用中的大规模制造过程中，薄膜的精确加工和图案化刻蚀仍然面临诸多挑战；尽管飞秒激光具有超短脉冲特性，能够实现高精度刻蚀，但在实际应用中，随着器件尺寸的增大，传统刻蚀方法难以在大面积薄膜上保持刻蚀的一致性和均匀性，导致器件性能的不稳定和降低。

技术实现思路

1、针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀方法及系统，解决了传统刻蚀方法难以在大面积薄膜上保持刻蚀的一致性和均匀性，导致器件性能的不稳定和降低的问题。

2、为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀方法及系统，该系统包括：

3、激光光源模块，用于产生高重复率、可调激光功率、频率和光束扩散角的飞秒激光脉冲；

4、光学路径控制模块，配置有光学元件组、光学元件对准系统、光束整形器及本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀系统，其特征在于，该系统包括：

2.根据权利要求1所述的一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀系统，其特征在于：所述激光光源模块包括：

3.根据权利要求2所述的一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀系统，其特征在于：所述光学路径控制模块中，所述光学元件采用高纯度石英或熔融硅材料制成；所述光学元件表面涂覆抗污染涂层；其中，所述光学元件组包括高质量反射镜、高质量透镜以及高质量分束器，所述高质量反射镜具有低波前畸变和高光学传输效率；所述高质量透镜用于激光束的聚焦和准直；所述高质量分束器用于将激光束分割为多个子激光束，实现多激光束叠加。p>

4.根据权...

【技术特征摘要】

1.一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀系统，其特征在于，该系统包括：

2.根据权利要求1所述的一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀系统，其特征在于：所述激光光源模块包括：

3.根据权利要求2所述的一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀系统，其特征在于：所述光学路径控制模块中，所述光学元件采用高纯度石英或熔融硅材料制成；所述光学元件表面涂覆抗污染涂层；其中，所述光学元件组包括高质量反射镜、高质量透镜以及高质量分束器，所述高质量反射镜具有低波前畸变和高光学传输效率；所述高质量透镜用于激光束的聚焦和准直；所述高质量分束器用于将激光束分割为多个子激光束，实现多激光束叠加。

4.根据权利要求3所述的一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀系统，其特征在于：所述光学路径控制模块包括：

5.根据权利要求4所述的一种钙钛...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭家俊，徐灵炜，
申请(专利权)人：杭州鼎能光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：