集成电路版图层次的检查方法及系统技术方案

技术编号:46630186 阅读:1 留言:0更新日期:2025-10-14 21:29
本发明专利技术公开了一种集成电路版图层次的检查方法及系统,其中方法包括以下步骤:获取集成电路所有层的第一真值表,根据该第一真值表对其中不同类型的器件进行分类;根据同一类型器件在种子层区域中的第一类特定层规则,对版图进行检查,得到确认后的第一类特定层规则;将确认后的第一类特定层规则与相应类型器件在种子层区域中的第二类特定层规则相结合,构建第二真值表;根据该第二真值表得到相应类型器件的种子层区域各层的计算公式;根据计算公式从版图中抽取种子层,若无法抽取,则版图中的第二类特定层规则对应的层存在错误;反之,无误。本发明专利技术大大提高了版图检查效率和准确率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体集成电路版图检测,尤其涉及一种集成电路版图层次的检查方法及系统


技术介绍

1、在先进制程中,随着器件结构复杂,所运用到的层次越来越多,seedlayer(种子层)区域多定义或者漏定义层次会导致电路规则检查(layoutversus schematic,lvs)中seedlayer定义错误,从而无法正确识别出版图中的device(器件),需要花费大量时间进行排查。

2、现阶段排查方法中,初始的dtt(device truth table 器件真值表)中会包含整颗device的layer(层)信息,实际lvs识别device时,需要的是seedlayer区域准确的层次信息。整颗device的layer层数通常情况下是大于seedlayer区域layer的层数。需要人工检查版图中seedlayer区域具体含有哪些层次信息。

3、如图1所示,先根据最外圈的黄色区域(device器件区域)的dtt得到devicex1和device x2的特定层layera1、layera2、layerb、layerc的真值,如下表1所示本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种集成电路版图层次的检查方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的集成电路版图层次的检查方法,其特征在于,该第一类特定层规则为某类层在集成电路中存在但种子层区域中不确定是否存在的属性。

3.根据权利要求1所述的集成电路版图层次的检查方法,其特征在于,该第二类特定层规则为某类层确定存在于种子层区域中的属性。

4.根据权利要求1所述的集成电路版图层次的检查方法,其特征在于,根据第一类特定层规则对版图进行检查时,将版图中与第一类特定层规则相对应的层均标记出来。

5.根据权利要求1所述的集成电路版图层次的检查方法,其特征在于,...

【技术特征摘要】

1.一种集成电路版图层次的检查方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的集成电路版图层次的检查方法,其特征在于,该第一类特定层规则为某类层在集成电路中存在但种子层区域中不确定是否存在的属性。

3.根据权利要求1所述的集成电路版图层次的检查方法,其特征在于,该第二类特定层规则为某类层确定存在于种子层区域中的属性。

4.根据权利要求1所述的集成电路版图层次的检查方法,其特征在于,根据第一类特定层规则对版图进行检查时,将版图中与第一类特定层规则相对应的层均标记出来。

5.根据权利要求1所述的集成电路版图层次的检查方法...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘苑查乐郭军
申请(专利权)人:合肥晶合集成电路股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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