一种区熔炉单晶棒保温装置制造方法及图纸

技术编号:46628736 阅读:4 留言:0更新日期:2025-10-14 21:26
本发明专利技术涉及单晶领域,具体是一种区熔炉单晶棒保温装置,包括设置在炉体内的高频主加热线圈,高频主加热线圈下方设有保温单元,所述保温单元包括保温筒,保温筒上设置多层加热组件;多层加热组件沿保温筒轴线上下均匀设置,且每层加热组件包括多个石墨加热板;通过旋转转盘的方式,控制每层多个石墨加热板所围成圆的直径,从而能够适应于对不同直径单晶棒料的保温,同时上下移动的导电杆,控制加热组件通电,灵活控制加热组件通电高度,从而控制电资源的合理利用,减少浪费,再者通过辅助加热块配合石墨加热板,发热区域趋于完整的环形状,热量能够充分辐射到单晶棒料表面每个部位。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及单晶领域,具体是一种区熔炉单晶棒保温装置


技术介绍

1、区熔硅单晶由于其独特的生长方式,具有纯度高,均匀性好、缺陷少等优点,适合用于大功率半导体元器件。随着智能化产业的发展,对于硬件的要求也越来越高,其中对大直径区熔硅单晶的需求日益增长;目前对区熔硅单晶的生长采用悬浮区域熔炼法,即采用高频主加热线圈加热多晶棒使其熔化,在线圈下方用籽晶接住熔融硅连续生长出单晶棒。由于采用悬浮区域熔炼,热场集中在多晶棒熔区周边,多晶棒熔区下方温度分布不均匀。

2、对于大直径的单晶硅生长来讲,晶硅棒表面快速冷却,而单晶硅棒中心和表面径向温度梯度扩大而导致硅单晶开裂,在开裂的基础上继续增大,熔区面积和热应力呈几何数级增大,当单晶棒热应力大于其临界剪压力时,单晶棒中将产生错位,导致单晶棒断棱甚至炸裂,影响生产效率,并对设备造成损害。

3、现有技术中,为改善熔区下方热场分布,提高单晶棒品质,多采用热量反射的方式对硅单晶表面进行保温,该方式对熔区下方的单晶棒起到一定的保温作用,但这个装置只能被动地反射从熔区辐射过来的热量,因此反射的热量大小和位置本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种区熔炉单晶棒保温装置,包括设置在炉体内的高频主加热线圈,所述高频主加热线圈用于加热熔化多晶棒料,其特征在于:所述高频主加热线圈下方设有保温单元,所述保温单元包括保温筒,保温筒上设置多层加热组件;

2.根据权利要求1所述的一种区熔炉单晶棒保温装置,其特征在于:所述保温单元还包括多个转动连接在保温筒外侧壁上的转盘,每个转盘上设有多个垂直于其表面设置的拨片;每个所述石墨加热板的背面设有滑杆,每个滑杆的端部贯穿至保温筒外侧壁设置,且每个滑杆的端部下表面开设滑口,拨片上边缘滑动连接在滑口内;

3.根据权利要求2所述的一种区熔炉单晶棒保温装置,其特征在于:所述保温筒一...

【技术特征摘要】

1.一种区熔炉单晶棒保温装置,包括设置在炉体内的高频主加热线圈,所述高频主加热线圈用于加热熔化多晶棒料,其特征在于:所述高频主加热线圈下方设有保温单元,所述保温单元包括保温筒,保温筒上设置多层加热组件;

2.根据权利要求1所述的一种区熔炉单晶棒保温装置,其特征在于:所述保温单元还包括多个转动连接在保温筒外侧壁上的转盘,每个转盘上设有多个垂直于其表面设置的拨片;每个所述石墨加热板的背面设有滑杆,每个滑杆的端部贯穿至保温筒外侧壁设置,且每个滑杆的端部下表面开设滑口,拨片上边缘滑动连接在滑口内;

3.根据权利要求2所述的一种区熔炉单晶棒保温装置,其特征在于:所述保温筒一侧设有驱动转盘转动的驱动组件,且驱动组件包括两个竖直设置的丝杆,丝杆上连接有升降板,升降板上设有驱动电机,驱动电机的输出端固接有齿轮,齿轮与转盘外圈上的齿条啮合,且齿条沿转盘外圈弧面设置。

4.根据权利要求3所述的一种区熔炉单晶棒保温装置,其特征在于:所述保温筒内侧壁上还设有多层辅助加热块,且每层内的每个辅助加热块设置在相邻两个滑杆之间,每个辅助加热块表面两侧设有受电板;每个所述石墨加热板的背面两侧均设置导电板,石墨加热板向保温筒内侧壁方向移动,导电板与受电板电性连接,辅助加热...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡动力陈湘伟王人松岳增可
申请(专利权)人:连科半导体有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1