【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造质量控制,具体涉及基于物理因果关系建模的半导体异常检测方法及系统。
技术介绍
1、半导体制造过程中,设备配备大量不同类型传感器进行实时监控,包括射频功率传感器、腔室压力传感器、气体流量传感器、温度传感器等。这些传感器间存在明确的物理因果关系,如射频功率直接激发等离子体产生,等离子体密度决定刻蚀速率,气体流量影响腔室压力变化等。然而,现有异常检测方法在处理多传感器关联关系方面存在显著技术局限。
2、首先,时序对齐方法缺乏物理机理指导。传统方法主要采用dtw,即动态时间规整算法和互相关分析进行时序对齐。dtw算法基于距离相似性进行动态规划匹配,计算复杂度高且无法体现传感器间的物理关联关系。互相关分析虽然计算简单,但仅考虑统计相关性,忽略了半导体工艺中传感器间明确存在的物理因果关系。例如,在刻蚀工艺中,射频功率变化会在微秒级时间内引起等离子体密度变化,进而在毫秒级时间内影响刻蚀速率,最终在秒级时间内导致温度分布改变。这种明确的物理因果链在传统对齐方法中被完全忽略,导致对齐精度有限,容易出现因果颠倒的错误判断
3、本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.基于物理因果关系建模的半导体异常检测方法,其特征在于:包括如下依次执行的步骤:
2.如权利要求1所述的基于物理因果关系建模的半导体异常检测方法,其特征在于:步骤S1中,该多维传感器数据包括刻蚀设备的射频功率、腔室压力、气体流量和温度分布,PECVD设备的功率匹配、反应气体流量和加热温度,采用数据质量评估机制对该多维传感器数据进行预处理。
3.如权利要求1所述的基于物理因果关系建模的半导体异常检测方法,其特征在于:步骤S2具体包括如下步骤:
4.如权利要求3所述的基于物理因果关系建模的半导体异常检测方法,其特征在于:步骤S3的基于
...【技术特征摘要】
1.基于物理因果关系建模的半导体异常检测方法,其特征在于:包括如下依次执行的步骤:
2.如权利要求1所述的基于物理因果关系建模的半导体异常检测方法,其特征在于:步骤s1中,该多维传感器数据包括刻蚀设备的射频功率、腔室压力、气体流量和温度分布,pecvd设备的功率匹配、反应气体流量和加热温度,采用数据质量评估机制对该多维传感器数据进行预处理。
3.如权利要求1所述的基于物理因果关系建模的半导体异常检测方法,其特征在于:步骤s2具体包括如下步骤:
4.如权利要求3...
【专利技术属性】
技术研发人员:王耀宗,黄腾凯,陈豪,陈松航,张剑铭,骆炜,戴玲凤,连明昌,王森林,钟浪,
申请(专利权)人:泉州装备制造研究所,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。