基板保持装置及湿法设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种基板保持装置及湿法设备，包括旋转卡盘，旋转卡盘具有中间通道，旋转卡盘用于绕中间通道的轴线旋转；旋转卡盘的顶部设置有从内向外径向延伸的导流槽，导流槽具有第一侧壁、多个第二侧壁和底壁，第一侧壁围设在中间通道的外围，多个第二侧壁沿周向间隔排布在旋转卡盘的边缘，底壁连接第一侧壁和多个第二侧壁，并且，第一侧壁、多个第二侧壁和底壁用于使导流槽包括相互连通的环形流道和多个径向流道，其中，环形流道包围中间通道，多个径向流道自环形流道延伸至边缘。本发明专利技术能够防止旋转卡盘上的积液渗入到旋转卡盘的中间通道内部，进而防止渗液腐蚀中间通道内部的零件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造，尤其涉及一种基板保持装置及湿法设备。

技术介绍

1、图1为一种基板保持装置的结构示意图；图2为一种基板保持装置局部结构的剖面示意图。

2、参考图1和图2，基板保持装置包括多个夹持件100’和旋转卡盘200’，多个夹持件100’设置在旋转卡盘200’边缘。在单片式湿法工艺过程中，一般通过多个夹持件100’将进行湿法刻蚀或清洗的基板固定于旋转卡盘200’的上方，并使基板在旋转卡盘200’的带动下旋转，同时向旋转的基板上表面或下表面喷射药液进行工艺处理。

3、在上述工艺中，需要保证旋转卡盘200’上的处理液能够在旋转卡盘200’旋转时的离心力作用下顺利甩出，若旋转卡盘200’因低速旋转没有及时排出，导致旋转卡盘200’上积累过多处理液时，就会如图2中虚线箭头所示，处理液容易渗入旋转卡盘200’的中间通道220’的内部，会腐蚀内部零件，影响内部零件的寿命。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于解决现有技术中基板保持装置的旋转卡盘上的处理液容易渗入到中间通道的内部的问本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板保持装置，其特征在于，包括旋转卡盘，所述旋转卡盘具有中间通道，所述旋转卡盘用于绕所述中间通道的轴线旋转；其中，

2.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，所述底壁的上表面与水平面平行。

3.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，所述底壁的上表面沿所述中间通道到所述边缘的方向向下倾斜。

4.根据权利要求3所述的基板保持装置，其特征在于，所述底壁的上表面为直面或弧面。

5.根据权利要求4所述的基板保持装置，其特征在于，当所述底壁的上表面为直面时，所述底壁的上表面与水平面之间的夹角α的范围是0°＜α＜20°。

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【技术特征摘要】

1.一种基板保持装置，其特征在于，包括旋转卡盘，所述旋转卡盘具有中间通道，所述旋转卡盘用于绕所述中间通道的轴线旋转；其中，

2.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，所述底壁的上表面与水平面平行。

3.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，所述底壁的上表面沿所述中间通道到所述边缘的方向向下倾斜。

4.根据权利要求3所述的基板保持装置，其特征在于，所述底壁的上表面为直面或弧面。

5.根据权利要求4所述的基板保持装置，其特征在于，当所述底壁的上表面为直面时，所述底壁的上表面与水平面之间的夹角α的范围是0°＜α＜20°。

6.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，所述旋转卡盘包括多个安装台，所述多个安装台沿所述旋转卡盘的周向间隔设置在所述边缘处，所述多...

【专利技术属性】
技术研发人员：何西登，韩阳，陈中强，
申请(专利权)人：盛美半导体设备上海股份有限公司，
类型：发明
国别省市：