一种离子校准源制造技术

本申请提供一种离子校准源，涉及环境检测技术领域。在该离子校准源中，流动控制装置能够使目标气体依次流过离子产生装置、离子控制装置，离子产生装置能够使流过自身的目标气体发生离子化，因此最终流出离子校准源的目标气体中包含目标离子。又由于离子控制装置对流过自身的目标气体中目标离子的含量进行限制，并且目标离子可以为负离子、目标气体可以为空气，所以最终流出离子校准源的空气中的负离子的含量会更加接近于含量标称值，因此含量标称值相同的多个离子校准源所输出的空气中的负离子的含量更加接近，从而可以提高对空气负离子检测设备进行的校验的准确性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及环境检测，特别是涉及一种离子校准源。

技术介绍

1、目前，现有的空气负离子检测设备在出厂时需要对其进行校验，以保证其检测的准确性。通常情况下，在对空气负离子检测设备进行出厂校验时，采用非直观的测试盒作为空气源。

2、但是，不同的测试盒在使用时输出的负离子的含量并不相同，从而导致有些空气负离子检测设备虽校验合格但实际并不合格、有些空气负离子检测设备虽校验不合格但实际合格，进而导致对空气负离子检测设备进行的校验的准确性较低。

3、因此，如何提高对空气负离子检测设备进行的校验的准确性，是亟待解决的技术问题。

技术实现思路

1、有鉴于此，本专利技术提供了一种离子校准源，以提高对空气负离子检测设备进行的校验的准确性。

2、为实现上述目的，本专利技术实施例提供如下技术方案：

3、本申请提供一种离子校准源，包括：流动控制装置、离子产生装置和离子控制装置；

4、所述流动控制装置用于使目标气体依次流过所述离子产生装置及所述离子控制装置；

5、本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种离子校准源，其特征在于，包括：流动控制装置、离子产生装置和离子控制装置；

2.根据权利要求1所述的离子校准源，其特征在于，还包括：气体过滤装置；

3.根据权利要求1所述的离子校准源，其特征在于，所述流动控制装置还用于限制所述目标气体的流速。

4.根据权利要求1所述的离子校准源，其特征在于，所述离子控制装置还用于对流过自身的所述目标气体中的非目标离子进行过滤。

5.根据权利要求1至4任一项所述的离子校准源，其特征在于，所述流动控制装置的入口作为所述离子校准源的入口，所述流动控制装置的出口与所述离子产生装置的入口相连，所述离子产生装置的...

【技术特征摘要】

1.一种离子校准源，其特征在于，包括：流动控制装置、离子产生装置和离子控制装置；

2.根据权利要求1所述的离子校准源，其特征在于，还包括：气体过滤装置；

3.根据权利要求1所述的离子校准源，其特征在于，所述流动控制装置还用于限制所述目标气体的流速。

4.根据权利要求1所述的离子校准源，其特征在于，所述离子控制装置还用于对流过自身的所述目标气体中的非目标离子进行过滤。

5.根据权利要求1至4任一项所述的离子校准源，其特征在于，所述流动控制装置的入口作为所述离子校准源的入口，所述流动控制装置的出口与所述离子产生装置的入口相连，所述离子产生装置的出口与所述离子...

【专利技术属性】
技术研发人员：欧秀虎，赖文，张脉惠，余家燕，周玉，张朋，陈建，赵勇，牟进，李萍，
申请(专利权)人：北京沃斯彤科技有限公司，
类型：发明
国别省市：