一种具有双面清理功能的掩模板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术符合掩模板处理技术领域，主要提及了一种具有双面清理功能的掩模板处理装置。包括有操作台，操作台安装有呈矩阵分布的固定架，呈矩阵分布的固定架转动连接有载物台，载物台内放置有掩模板，掩模板由石英板和上侧的金属层组成，呈矩阵分布的固定架通过第二动力组件设置有对称分布的T型架，对称分布的T型架共同可拆卸安装有拦截框，操作台设置有清理机构，清理机构包括有对称分布且安装于操作台的电动推杆，电动推杆的伸缩端固接有U型架，U型架转动连接有喷液管，喷液管设置有等间距分布的喷液口。本发明专利技术通过拦截框将掩模板的石英板部分和金属层部分分隔，进行单独清理，使得清理过程具有针对性，节省清洗液。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于掩模板处理，特别是一种具有双面清理功能的掩模板处理装置。

技术介绍

1、掩模板是半导体制造中的核心图形转移工具，通过光刻技术将电路图案转移至硅片上，掩模板由石英板和上侧的金属层图案组成，其金属层部分主要由铬或钼硅组成，光刻过程中掩模板上会粘附杂质，而掩模板石英层上的杂质有光酸产物、无机物颗粒、有机物残胶、金属颗粒等，对于光酸产物会利用超临界co2和0.1%三氟乙酸对石英层进行清理，有机物残胶及金属颗粒主要用spm（即浓硫酸与双氧水一定比例的混合液）溶剂进行清洗，对于无机物颗粒则会使用sc1(即氨水、双氧水及去离子水的一定比例混合液)溶液进行去除，掩模板的金属层残留的部分杂质主要为有机胺类，该杂质堆积过多容易诱发针孔，影响光刻过程，可通过乙酸（ch3cooh）和过氧化氢蒸汽（h2o2）或者spm溶液对金属层进行清理。

2、现有主要采用分步处理法，对掩模板进行清理，但是该方法采用统一清洗方式，即针对于石英层清理的清理液在清理石英层时也会对金属层清理，这就使得该清理方式无法完成针对性清理，浪费清洗液，且在对石英层清理完成后需要等待石英层本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种具有双面清理功能的掩模板处理装置，其特征是：包括有操作台（1），所述操作台（1）安装有呈矩阵分布的固定架（2），呈矩阵分布的所述固定架（2）通过第一动力组件转动连接有载物台（3），所述载物台（3）内放置有掩模板，掩模板由石英板（301）和上侧的金属层（302）组成，呈矩阵分布的所述固定架（2）通过第二动力组件设置有对称分布的T型架（4），对称分布的所述T型架（4）共同可拆卸安装有拦截框（5），所述操作台（1）的上侧设置有用于清理掩模板的清理机构，所述清理机构包括有对称分布且安装于所述操作台（1）的电动推杆（12），所述电动推杆（12）的伸缩端固接有U型架（13），所述U型架（13...

【技术特征摘要】

1.一种具有双面清理功能的掩模板处理装置，其特征是：包括有操作台（1），所述操作台（1）安装有呈矩阵分布的固定架（2），呈矩阵分布的所述固定架（2）通过第一动力组件转动连接有载物台（3），所述载物台（3）内放置有掩模板，掩模板由石英板（301）和上侧的金属层（302）组成，呈矩阵分布的所述固定架（2）通过第二动力组件设置有对称分布的t型架（4），对称分布的所述t型架（4）共同可拆卸安装有拦截框（5），所述操作台（1）的上侧设置有用于清理掩模板的清理机构，所述清理机构包括有对称分布且安装于所述操作台（1）的电动推杆（12），所述电动推杆（12）的伸缩端固接有u型架（13），所述u型架（13）远离对应所述电动推杆（12）的一侧转动连接有喷液管（14），所述喷液管（14）与其上的所述u型架（13）之间设置有扭簧，所述喷液管（14）设置有等间距分布的喷液口。

2.按照权利要求1所述的一种具有双面清理功能的掩模板处理装置，其特征是：还包括有对称分布的固定套（6），对称分布的所述固定套（6）均固接于所述拦截框（5）内侧的上部，对称分布的所述固定套（6）共同转动连接有位于所述拦截框（5）内上侧的遮挡板（7）。

3.按照权利要求2所述的一种具有双面清理功能的掩模板处理装置，其特征是：呈矩阵分布的所述固定架（2）通过第三动力组件设置有对称分布的连接架（8），对称分布的所述连接架（8）共同可拆卸安装有防护板（9），所述防护板（9）设置有用于限位所述拦截框（5）上侧的限位槽（901），所述拦截框（5）的上侧设置有用于转动所述遮挡板（7）的翻转组件。

4.按照权利要求3所述的一种具有双面清理功能的掩模板处理装置，其特征是：所述翻转组件包括有对称分布的l形杆（10），对称分布的所述l形杆（10）均滑动连接于所述拦截框（5）的上侧，所述l形杆（10）与所述固定套（6）一一对应，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张月圆，朱希进，朱明伟，徐佳，刘维维，高奇，魏杰，
申请(专利权)人：江苏路芯半导体技术有限公司，
类型：发明
国别省市：