一种光固化树脂及制备方法与应用技术

本发明专利技术涉及光固化材料技术领域，具体的，涉及一种光固化树脂及制备方法与应用。光固化树脂的结构通式如式1所示：其中R1选自C1‑C20的直链烷基、支链烷基、环状烷基中的一种；R2选自氢或甲基；R3选自亚乙基、亚丙基、亚丁基中的一种；R4选自氢、甲基、环己基中的一种；n1选自1‑40的整数，n2选自10‑60的整数。本发明专利技术树脂含磷氧化物、有机硅链段、不饱和双键的多嵌段聚合物，具有光固化活性和低剥离性，同时具有良好附着力而不产生迁移；应用在光学UV压印胶中可明显提升特殊纹理、精细图案的光学膜进行高精度转印，减少模具残留，延长使用寿命，保障光学膜高质量、高良率以及长期稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光固化材料，具体的，涉及一种光固化树脂及制备方法与应用。

技术介绍

1、uv压印是一种表面微纳加工技术，通过将带有微细凹凸纹理的模具压印在树脂表面，经紫外线照射固化后脱模，从而在基材膜表面精确复制微细结构图案。该技术以低温、低压的固化特性区别于热压印工艺，尤其适用于高深宽比的亚微米级结构的批量化制造，兼具高效性与节能性。其核心优势在于可通过简单流程实现大面积、高精度的微结构复刻，因此在光学增亮膜、防炫膜、装饰膜等领域广泛应用。然而，脱模环节的控制对最终结构的精度、清晰度及稳定性至关重要。高深宽比微结构在脱模时易因界面粘附力导致形变或损伤。

2、中国专利技术专利申请cn105038392a公开了一种uv翻印涂料组合物及其应用。使用到了表面平滑助剂，所述表面平滑助剂选自聚硅氧烷、改性聚硅氧烷、聚酯改性聚硅氧烷、聚醚改性聚硅氧烷、含氟聚丙烯酸共聚物中的一种。但多氟烷烃/有机硅聚合物与树脂基体相容性差，少量添加时脱模力仍偏高，过量添加则引发相分离，导致体系浑浊并破坏光学均一性，同时物理添加的方式受应用环境的限制，尤其高温高湿环境下，添加剂本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光固化树脂，其特征在于，结构通式如式1所示：

2.根据权利要求1所述的光固化树脂，其特征在于，按重量份计，所述光固化树脂的制备原料包括：脂肪醇聚醚30-55份、羟基丙烯酸酯单体3-10份、磷氧化物3-10份、环氧基聚硅氧烷30-60份、阻聚剂0.1-0.5份、催化剂0.05-0.4份。

3.根据权利要求2所述的光固化树脂，其特征在于，所述脂肪醇聚醚选自C5-C18脂肪醇聚氧乙烯醚或C5-C18脂肪醇聚氧丙烯醚。

4.根据权利要求2或3所述的光固化树脂，其特征在于，所述环氧基聚硅氧烷包括单端单环氧基聚硅氧烷、单端双环氧基聚硅氧烷、侧链环氧基聚硅氧...

【技术特征摘要】

1.一种光固化树脂，其特征在于，结构通式如式1所示：

2.根据权利要求1所述的光固化树脂，其特征在于，按重量份计，所述光固化树脂的制备原料包括：脂肪醇聚醚30-55份、羟基丙烯酸酯单体3-10份、磷氧化物3-10份、环氧基聚硅氧烷30-60份、阻聚剂0.1-0.5份、催化剂0.05-0.4份。

3.根据权利要求2所述的光固化树脂，其特征在于，所述脂肪醇聚醚选自c5-c18脂肪醇聚氧乙烯醚或c5-c18脂肪醇聚氧丙烯醚。

4.根据权利要求2或3所述的光固化树脂，其特征在于，所述环氧基聚硅氧烷包括单端单环氧基聚硅氧烷、单端双环氧基聚硅氧烷、侧链环氧基聚硅氧烷中的一种。

5.根据权利要求4所述的光固化树脂，其特征在于，所述羟基丙烯酸酯单体包括丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸羟丙酯、丙烯酸羟丁酯、甲基丙烯酸羟丁酯...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢佳武，李新雄，张冬明，
申请(专利权)人：邦弗特新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：