【技术实现步骤摘要】
本申请涉及晶体监测，尤其涉及基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法。
技术介绍
1、随着材料学的研究逐渐深度发展，迫切需要对材料的作用机理、结构变化及影响其性能的因素进行更深入的研究。当前晶体生长技术中，晶体质量均匀性的表征大多依赖于生长完成后的离线检测或原位表征技术。
2、然而，离线检测无法实时捕捉晶体生长过程中的动态变化，现有原位表征技术虽能提供部分实时数据，但单一模态的局限性导致无法全面反映晶体表面化学成分与结构的协同演化。
技术实现思路
1、本申请提供了基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法，以至少解决相关技术中单一模态的局限性导致无法全面反映晶体表面化学成分与结构的协同演化的问题。
2、本申请提供了一种基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法，包括：
3、集成多种光电子成像方法对晶体生长过程进行监测，得到多模态成像数据；
4、基于深度学习模型对多模态成像数据进行数据融合分析，计算均匀性指数；
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【技术保护点】
1.一种基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法，其特征在于，所述集成多种光电子成像方法对晶体生长过程进行监测，得到多模态成像数据，包括：
3.根据权利要求2所述的基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法，其特征在于，在集成多种光电子成像方法对晶体生长过程进行监测，得到多模态成像数据之后，所述方法还包括：
4.根据权利要求1所述的基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法，其特征在于，所述基于深度学习模型对所述...
【技术特征摘要】
1.一种基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法，其特征在于，所述集成多种光电子成像方法对晶体生长过程进行监测，得到多模态成像数据，包括：
3.根据权利要求2所述的基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法，其特征在于，在集成多种光电子成像方法对晶体生长过程进行监测，得到多模态成像数据之后，所述方法还包括：
4.根据权利要求1所述的基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法，其特征在于，所述基于深度学习模型对所述多模态成像数据进行数据融合分析，计算均匀性指数，包括：
5.根据权利要求1所述的基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法，其特征在于，所述根据所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭芬，索曌君，李仁刚，王长红，席鑫，
申请(专利权)人：山东云海国创云计算装备产业创新中心有限公司，
类型：发明
国别省市：
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