【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体处理，特别是涉及一种衬底检测装置，还涉及设置有该衬底检测装置的衬底处理设备。
技术介绍
1、在化学气相沉积（cvd）或金属有机物化学气相沉积（mocvd）设备中，衬底通常从衬底盒中取出后及借助机械手放置到反应腔中，反应腔中通常设有一个用来放置多层衬底的晶圆承载座，在实际运行中，存在机械手故障或晶圆承载座位置错误（譬如上升或下降的距离错误，使得机械手没从衬底盒中正确取出衬底或取出衬底后未放置到正确的位置）导致部分层位上没有放置衬底，而另一些层位上可能放置有二个衬底，如此会导致放置在下面的衬底表面因摩擦而受损，或者如果没有检测程序而直接进行反应过程时会导致放置在下面的衬底表面并形成沉积薄膜。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种衬底检测装置及衬底处理设备，来确认基座当前层位是否存在衬底。
2、为实现上述目的，实施本技术的一种衬底检测装置，其与反应腔体配合设置，所述检测装置包括：
3、光路检测组件，其设于所述反应腔体外并分...
【技术保护点】
1.一种衬底检测装置，其与反应腔体（1）配合设置，其特征在于，所述检测装置包括：
2.根据权利要求1所述的衬底检测装置，其特征在于，所述光线发射器（3）的发射端和光线接收器（4）的接收端均面向反应腔体（1）设置。
3.根据权利要求2所述的衬底检测装置，其特征在于，所述反应腔体（1）内设有用于承托衬底的晶圆承载座（2），且晶圆承载座（2）设有多层，所述光线发射器（3）和光线接收器（4）均设有三组；
4.根据权利要求3所述的衬底检测装置，其特征在于，当所述光线发射器（3）和光线接收器（4）均设有一组时，所述检测装置还包括两组直线模组（6...
【技术特征摘要】
1.一种衬底检测装置，其与反应腔体（1）配合设置，其特征在于，所述检测装置包括：
2.根据权利要求1所述的衬底检测装置，其特征在于，所述光线发射器（3）的发射端和光线接收器（4）的接收端均面向反应腔体（1）设置。
3.根据权利要求2所述的衬底检测装置，其特征在于，所述反应腔体（1）内设有用于承托衬底的晶圆承载座（2），且晶圆承载座（2）设有多层，所述光线发射器（3）和光线接收器（4）均设有三组；
4.根据权利要求3所述的衬底检测装置，其特征在于，当所述光线发射器（3）和光线接收器（4）均设有一组时，所述检测装置还包括两组直线模组（6），两组直线模组（6）布设在反应腔体（1）的相对应两侧位置处；
5.根据权利要求4所述的衬底检测装置，其特征在于，每组所述直线模组（6）包括导轨、内置于导轨中的电动机、转动安装在导轨上的螺杆、螺纹套设在螺杆上的滑台；螺杆固定连接...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑国，王善奇，
申请(专利权)人：上海衍梓智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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