一种有机氯硅烷水解物洗涤脱氯工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种有机氯硅烷水解物洗涤脱氯工艺，包括步骤：有机氯硅烷原料与工艺水连续通入水解脱氯工段，完成有机氯硅烷水解物硅氧烷的生产与初步脱氯过程，随后将水解物硅氧烷送往水洗脱氯工段最终脱氯后得到产物低氯硅氧烷。本发明专利技术的工艺在水解脱氯工段与水洗脱氯工段，通过耦合聚结相分离器和高压静电装置的双重聚结‑沉降技术，大幅降低了脱氯能耗，工艺在水洗除氯总量降低的基础上可以大幅减少水洗工段所需用水量，且可将水洗脱氯工段收集的水相全部回用于水解脱氯工段，替换水解反应需要补充的部分补水量。本发明专利技术工艺具有提高有机氯硅烷水解物脱氯效率、减少能耗、绿色环保、无废水废碱液排放、可连续生产高品质硅氧烷等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有机硅领域，具体涉及一种用于有机氯硅烷水解物洗涤脱氯的新工艺。

技术介绍

1、有机氯硅烷通过水解和缩聚生成的具有线性或者环状结构的中间体低聚硅氧烷，是合成硅油、硅橡胶、硅树脂的重要基础。通常，有机氯硅烷在酸性条件下发生水解反应生成水解物低聚硅氧烷与副产物hcl。然而，hcl易溶解水解物夹带的水相中，导致水解物硅氧烷中残留的cl离子浓度较高，直接影响水解物硅氧烷的品质与后续的应用开发。

2、(ch3)2sicl2+2h2o→(ch3)si(oh)2+2hcl

3、

4、目前，脱除水解物硅氧烷中残留cl离子的方法主要有设置多级水洗、碱洗工序或者设计特殊的蒸汽塔、精馏塔等等。专利cn101817505a中公开了一种水洗、碱中和、水洗方法除氯，其中碱液使用5％～30％的纯碱溶液或者2％～10％的烧碱溶液，该工艺虽然能较好的除去水解物中的游离氯，但存在着用水量、用碱量大，水洗工段产出废水、废盐，环保处理成本高等问题；专利cn103214508a、cn102174200a、cn1099435c采用多级水洗与碱洗方式除氯本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种有机氯硅烷水解物洗涤脱氯工艺，其特征在于原料有机氯硅烷经水解脱氯工段与水洗脱氯工段后，得到高品质的低氯硅氧烷产物，包括以下过程：

2.根据权利要求1所述的有机氯硅烷水解物洗涤脱氯工艺，其特征在于所述水解反应器为两级串联，一级水解反应器内温度控制在40℃~60℃、压力为0.1~0.3MPa、饱和盐酸浓度控制在39%~45%、停留时间为5~10min；二级水解反应器内温度控制在40℃~60℃、压力为0.1MPa、浓盐酸浓度控制在12%~25%、停留时间为5~10min。

3.根据权利要求1所述的有机氯硅烷水解物洗涤脱氯工艺，其特征在于水解静电装置或水洗静电装置...

【技术特征摘要】

1.一种有机氯硅烷水解物洗涤脱氯工艺，其特征在于原料有机氯硅烷经水解脱氯工段与水洗脱氯工段后，得到高品质的低氯硅氧烷产物，包括以下过程：

2.根据权利要求1所述的有机氯硅烷水解物洗涤脱氯工艺，其特征在于所述水解反应器为两级串联，一级水解反应器内温度控制在40℃~60℃、压力为0.1~0.3mpa、饱和盐酸浓度控制在39%~45%、停留时间为5~10min；二级水解反应器内温度控制在40℃~60℃、压力为0.1mpa、浓盐酸浓度控制在12%~25%、停留时间为5~10min。

3.根据权利要求1所述的有机氯硅烷水解物洗涤脱氯工艺，其特征在于水解静电装置或水洗静电装置内的电场强度为20~100kv/m，温度为40~90℃，电源是正高压直流电源或负高压直流电源。

4.根据权利要求1所述的有机氯硅烷水解物洗涤脱氯工艺，其特征在于水解相分离器的温度控制在40~90℃，水解相分离器中的停留时间为5...

【专利技术属性】
技术研发人员：聂勇，梁晓江，吴路成，向进心，王志伟，杨锐，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：发明
国别省市：