一种复合靶制作方法技术

技术编号:46551301 阅读:0 留言:0更新日期:2025-10-10 21:11
本发明专利技术涉及电路板制作技术领域,特别涉及一种复合靶制作方法,该方法包括:获取铜基板中的内层线路表面需要蚀刻的复合靶线路图形,其中,内层线路表面包括上层线路表面和下层线路表面,上层线路表面是将孔位对应位置的铜蚀刻掉,下层线路表面是将复合靶对应位置的铜蚀刻掉,将多个待压合的内层板依次叠合后压合在已蚀刻的内层线路表面上,形成多层线路板,通过钻靶机获取多个多层线路板上的复合靶位置信息,其中,多层线路板上的复合靶包括对位中心与对位靶点。可见,本申请通过制作得到的复合靶,实现了同时对钻孔与激光孔的位置对准都可以兼顾,最大限度保障到线路与两种不同孔图元的对准度,从而提高了图形的对位精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电路板制作,特别涉及一种复合靶制作方法


技术介绍

1、随着pcb向高多层板发展,对准度要求越来越来高,制作难度越来越大。这是由于hdi多层线路板的外层一面采用特殊材料(如ptfe、陶瓷基),另一面采用普通材料(如fr4),这两种材料在物理和化学性质上存在显著差异,如热膨胀系数、硬度等。这种差异可能导致在加工过程中板件会发生形变、信号不良、caf等不良现象,因此提升对准度能力,对提高pcb制程能力以及增强企业的市场竞争力起着关键的作用。

2、然而,现有pcb制作流程中通常采用单一复合靶7设计的对位方法进行图形对位对准防止图形偏移,只能使pcb的线路图形与其单一复合靶7的对准度得到保证,但对于线路图形与其它未作参照的图元则不能得到保证,从而导致图形的对位精度较差。


技术实现思路

1、基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种复合靶制作方法,以提高图形的对位精度。

2、第一方面,提供了一种复合靶制作方法,所述复合靶制作方法包括:

3、获取铜基板中的内层线路表面需要蚀本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种复合靶制作方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的复合靶制作方法,其特征在于,所述多层线路板上的复合靶为四个,四个所述复合靶呈矩形设置在所述多层线路板的边缘四角处,用于为所述多层线路板上的外层线路图形制作提供对位点。

3.根据权利要求1所述的复合靶制作方法,其特征在于,所述对位中心与所述对位靶点的形状均为圆型通孔。

4.根据权利要求1所述的复合靶制作方法,其特征在于,所述对位中心的直径大小为2.0-3.5mm,所述对位靶点的直径大小为0.15-0.3mm。

5.根据权利要求1所述的复合靶制作方法,其特征在于,所述对位靶点与...

【技术特征摘要】

1.一种复合靶制作方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的复合靶制作方法,其特征在于,所述多层线路板上的复合靶为四个,四个所述复合靶呈矩形设置在所述多层线路板的边缘四角处,用于为所述多层线路板上的外层线路图形制作提供对位点。

3.根据权利要求1所述的复合靶制作方法,其特征在于,所述对位中心与所述对位靶点的形状均为圆型通孔。

4.根据权利要求1所述的复合靶制作方法,其特征在于,所述对位中心的直径大小为2.0-3.5mm,所述对位靶点的直径大小为0.15-0.3mm。

5.根据权利要求1所述的复合靶制作方法,其特征在于,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐马龙王勇蒋崇进杨莉张华利彭俊中
申请(专利权)人:南通深南电路有限公司
类型:发明
国别省市:

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