【技术实现步骤摘要】
本技术涉及退火炉领域,尤其涉及一种具有隔热保温结构的退火炉。
技术介绍
1、退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能,热处理是针对不同的效果而设计的,可以加热晶片以激活掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。
2、退火炉是一种用于金属加工的设备,通过控制温度和气氛,使金属在炉中达到所需的热处理效果,其中步骤分为加热、维持温度、控制气氛和冷却。
3、而现有的退火炉炉体结构组成较为简单造成隔热和保温效果较差降低了热能利用率,同时内部加热方式单一在冷炉刚启动时加热到需要的温度时间较长,降低了退火炉的工作效率
4、因此,有必要提供一种具有隔热保温结构的退火炉解决上述技术问题。
技术实现思路
1、本技术提供一种具有隔热保温结构的退火炉,解决了炉体结构和简单和加热方式单一的退火炉保温隔热效果较
...【技术保护点】
1.一种具有隔热保温结构的退火炉,其特征在于,包括:底板;
2.根据权利要求1所述的具有隔热保温结构的退火炉,其特征在于,所述密封门的另一侧安装有把手,所述炉体的顶部安装有温度传感器。
3.根据权利要求1所述的具有隔热保温结构的退火炉,其特征在于,所述内壳内壁的底部通过多个支撑栓安装有放置板,所述炉体的正面通过安装底座安装有操作屏。
4.根据权利要求1所述的具有隔热保温结构的退火炉,其特征在于,所述炉体的正面安装有控制箱,所述控制箱的正面安装有箱门。
5.根据权利要求1所述的具有隔热保温结构的退火炉,其特征在于,所述过滤
...【技术特征摘要】
1.一种具有隔热保温结构的退火炉,其特征在于,包括:底板;
2.根据权利要求1所述的具有隔热保温结构的退火炉,其特征在于,所述密封门的另一侧安装有把手,所述炉体的顶部安装有温度传感器。
3.根据权利要求1所述的具有隔热保温结构的退火炉,其特征在于,所述内壳内壁的底部通过多个支撑栓安装有放置板,所述炉体的正面通过安装底座安装有操作屏。
4.根据权利要求1所述的具有隔热保温结构的退火炉,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:陆介忠,
申请(专利权)人:苏州鼎佳炉窑科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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