【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及石英过滤器制备,具体为一种半导体用石英过滤器组件制造的工艺方法。
技术介绍
1、在半导体制备工艺里,反应容器在注入气体或破除真空环境时,传统做法是直接在容器内通入石英管,然而,这种方式存在明显弊端,气体流速过快会在容器内产生湍流,导致容器内产品质量不稳定。为解决这一问题,急需一种能对气体进行缓释的过滤器组件,以提升产品质量。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种半导体用石英过滤器组件制造的工艺方法,解决了现有直接插入石英管的方式容易使气体流速过快的问题。
2、为实现以上目的,本专利技术通过以下技术方案予以实现:一种半导体用石英过滤器组件制造的工艺方法,包括以下步骤:
3、s1、选用高纯度石英砂,通过振动筛分选石英砂作为石英过滤器的基材;
4、s2、通过纯水设备制备出纯水;
5、s3、根据石英过滤器的尺寸大小将石英砂进行称重,然后将石英砂与纯水按比例进行混合,混合均匀;
6、s4、将制浆后的石英砂
...【技术保护点】
1.一种半导体用石英过滤器组件制造的工艺方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种半导体用石英过滤器组件制造的工艺方法,其特征在于,步骤S9中清洗与包装的具体步骤为:将测试合格的石英过滤器总成放置在5%~15%的氢氟酸溶液中进行浸泡15~45min,然后用纯水对其进行清洗,干燥,在千级的无尘间对其进行独立封装。
3.根据权利要求2所述的一种半导体用石英过滤器组件制造的工艺方法,其特征在于,步骤S9中氢氟酸溶液的质量浓度为10%,浸泡时间为30min。
4.根据权利要求3所述的一种半导体用石英过滤器组件制造的工艺方
...【技术特征摘要】
1.一种半导体用石英过滤器组件制造的工艺方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种半导体用石英过滤器组件制造的工艺方法,其特征在于,步骤s9中清洗与包装的具体步骤为:将测试合格的石英过滤器总成放置在5%~15%的氢氟酸溶液中进行浸泡15~45min,然后用纯水对其进行清洗,干燥,在千级的无尘间对其进行独立封装。
3.根据权利要求2所述的一种半导体用石英过滤器组件制造的工艺方法,其特征在于,步骤s9中氢氟酸溶液的质量浓度为10%,浸泡时间为30min。
4.根据权利要求3所述的一种半导体用石英过滤器组件制造的工艺方法,其特征在于,步骤s4中烤箱温度为80℃,定型时间为50min。<...
【专利技术属性】
技术研发人员:张建,赵树君,邢洪超,李景双,吴静立,王兆岩,韩皓,杨柳,丁文杰,
申请(专利权)人:辽宁拓邦鸿基半导体材料股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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