用于制备太阳能电池的保护层制造技术

本文描述了用来制备太阳能电池的方法。该方法包括首先将具有光接收表面的基材置于处理室内。随后在所述处理室内形成位于所述基材的光接收表面上的抗反射涂料（ＡＲＣ）层。最后，不将所述基材从所述处理室中取出，在所述ＡＲＣ层上形成保护层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的实施方式属于半导体制备领域，特别是太阳能电池制备领域。
技术介绍
众所周知，光电池(photovoltaic cell)(通常被称为太阳能电池)是用于 将太阳辐射直接转化为电能的装置。通常地，在半导体晶片或基材(substmte) 上使用半导体加工技术来形成位于所述基材表面附近的p-n结(p-n junction),从而制备太阳能电池。撞击(impinging)到所述基材表面上的太 阳辐射在所述基材的主体内产生电子和空穴对，该电子和空穴对向所述基材 中的p-掺杂(p-doped)区域和n-掺杂(n-doped)区域迁移，进而在上述掺 杂区域之间产生电压差。将掺杂区域连接到太阳能电池的金属触点上，以使 电流从电池流向该电池所连接的外电路。通常来说，将太阳能电池的用于吸收辐射的表面纹理化(texture)禾口/ 或涂覆抗反射材料层或涂料来减少对光的反射，从而提高太阳能电池的效 率。这种太阳能电池的制备(特别是在其上形成p-n结和触点)涉及大量繁 琐的加工步骤，包括沉积、掺杂和蚀刻多个不同材料的层。在受控的环境条 件下，用多种不同的加工工具，以低的变动公差(variatio本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用来制备太阳能电池的方法，该方法包括：　将具有光接收表面的基材置于处理室内；　在所述处理室内，在所述基材的所述光接收表面上形成抗反射涂料层；且不将所述基材从所述处理室中取出，　在所述抗反射涂料层上形成保护层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2007-5-17 60/930,800;US 2008-4-21 12/106,5611、一种用来制备太阳能电池的方法，该方法包括将具有光接收表面的基材置于处理室内；在所述处理室内，在所述基材的所述光接收表面上形成抗反射涂料层；且不将所述基材从所述处理室中取出，在所述抗反射涂料层上形成保护层。2、 根据权利要求1所述的方法，其中，所述保护层含有无定形碳。3、 根据权利要求2所述的方法，其中，所述保护层通过使用气体的气相沉积而形成，所述气体选自由甲垸、乙院、丙烷、乙烯、丙烯、以及由载气输送的液体甲苯所组成的组中，所述载气选自由氩气、氮气、氦气和氢气所组成的组中。4、 根据权利要求1所述的方法，其中，所述保护层含有非晶硅。5、 根据权利要求4所述的方法，其中，所述保护层由使用硅烷气体的气相沉积形成。6、 根据权利要求1所述的方法，其中，形成的所述保护层的厚度约为1-30纳米。7、 根据权利要求1所述的方法，其中，所述抗反射涂料层和所述保护层均通过选自由化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积、常压化学气相沉积和物理气相沉积所组成的组中的技术而形成。8、 根据权利要求1所述的方法，其中，所述保护层对氧化物蚀刻缓冲剂具有耐受性。9、 一种用来制备太阳能电池的方法，该方法包括提供具有光接收表面和第二表面的基材，所述第二表面具有多个活性区域；在处理室中，在所述基材的所述光接收表面上形成抗反射涂料层；且不将所述基材从所述处理室中取出，在所述抗反射涂料层上形成保护层；使用氧化物蚀刻缓冲剂在所述基材的所述第二表面上形成直至所述多个活性区域的多个接触口，其中，在形成所述多个接触口的过程中，所述保护层对所述抗反射涂料层进行保护；除去所...

【专利技术属性】
技术研发人员：HC卢安，P卡曾斯，
申请(专利权)人：太阳能公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]