【技术实现步骤摘要】
本公开的实施例属于离子镀，具体涉及一种适用于阴极弧靶的旋转磁场装置及多弧离子镀装置。
技术介绍
1、离子镀的基本原理为，将作为蒸发源的靶材设定为阴极，利用其与阳极壳体之间引发的弧光放电效应，促使靶材经历蒸发与离化过程，从而形成空间等离子体，实现对工件的沉积镀覆操作。电弧离子镀膜技术，作为当下前沿的离子镀膜技术之一，凭借其结构简约、离化率高、入射粒子能量充沛、绕射性能优良以及可在低温环境下沉积等一系列显著优势，得以迅猛发展并广泛应用于各领域，展现出可观的经济效益与广阔的工业应用前景。
2、然而，在实际应用中，该技术存在一个显著问题，即大颗粒的喷射现象会对薄膜表面造成污染，致使薄膜表面粗糙度增加，进而降低其光泽度，这对装饰性和抗磨性应用产生了负面影响，严重损害了薄膜质量。具体表现为镀层附着力下降、出现剥落情况，以及镀层均匀性严重不足等问题。目前，针对大颗粒问题，主要采用磁过滤和机械过滤两种解决方案。虽然这两种过滤方式在一定程度上能够有效解决大颗粒问题，但在等离子体传输过程中，不可避免地会造成较大损耗。
3、此外，通过...
【技术保护点】
1.一种适用于阴极弧靶的旋转磁场装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的适用于阴极弧靶的旋转磁场装置，其特征在于，所述环形横向磁场结构包括环设于所述转架外周壁且相对设置的两个弧形磁铁，以及套设于两个所述弧形磁铁外弧面的环形磁轭；其中，两个所述弧形磁铁朝向彼此的内弧面的极性相反。
3.根据权利要求1所述的适用于阴极弧靶的旋转磁场装置，其特征在于，所述环形横向磁场结构包括套设于所述转架外周的环形磁铁，以及套设于所述环形磁铁外周的环形磁轭；其中，所述环形磁铁的内弧面充磁有朝向彼此且极性相反的两个磁极。
4.根据权利要求2或3所述...
【技术特征摘要】
1.一种适用于阴极弧靶的旋转磁场装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的适用于阴极弧靶的旋转磁场装置，其特征在于，所述环形横向磁场结构包括环设于所述转架外周壁且相对设置的两个弧形磁铁，以及套设于两个所述弧形磁铁外弧面的环形磁轭；其中，两个所述弧形磁铁朝向彼此的内弧面的极性相反。
3.根据权利要求1所述的适用于阴极弧靶的旋转磁场装置，其特征在于，所述环形横向磁场结构包括套设于所述转架外周的环形磁铁，以及套设于所述环形磁铁外周的环形磁轭；其中，所述环形磁铁的内弧面充磁有朝向彼此且极性相反的两个磁极。
4.根据权利要求2或3所述的适用于阴极弧靶的旋转磁场装置，其特征在于，还包括：磁铁支架，所述磁铁支架设置于所述转架外壁，所述磁铁支架配置为支撑所述环形横向磁场结构。
5.根据权利要求4所述的适用于阴极弧靶的旋转磁场装置，其特征在于，所述磁铁支架呈环形并套设于所述转架外周，以对所述环形横向磁场结构进行支撑。
6.根据权利要求1所述的适用于阴极弧...
【专利技术属性】
技术研发人员：马延文，
申请(专利权)人：苏州工业职业技术学院，
类型：发明
国别省市：
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