近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法及系统技术方案

本发明专利技术提供一种近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法及系统，涉及荧光探针技术领域，包括：构建近红外二区荧光分子聚集体的结构，并选取聚集体内的多个代表性构象，建立包括高层区域和低层区域的分层计算模型；对多个代表性构象进行结构优化得到其稳定构型，进一步进行激发态计算，获取各代表性构象的跃迁能量参数和跃迁偶极矩参数；结合跃迁参数和代表性构象数计算近红外二区荧光分子聚集体的综合考量因子；根据综合考量因子评估近红外二区荧光分子聚集体的光吸收强度。本发明专利技术显著提升近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估的效率，为高性能近红外二区荧光分子聚集体的性能优化及实验设计提供重要的理论支持与科学依据。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及荧光探针，具体涉及近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法及系统。

技术介绍

1、本部分的陈述仅仅是提供了与本公开相关的
技术介绍
，并不必然构成现有技术。

2、荧光成像技术凭借其非侵入性、高灵敏度和实时监测能力，已成为生物医学领域疾病诊断、手术导航及药物研发的重要工具。其中，近红外二区荧光成像因具备更深的组织穿透性、更低的自发荧光干扰和更高的空间分辨率，被视为突破传统可见光及近红外一区成像局限的关键技术，在活体成像、肿瘤检测等领域展现出巨大应用潜力。

3、近年来，开发高性能的近红外二区荧光分子成为研究热点。然而，在水溶液或生理环境中，这些荧光分子易发生非可控聚集，导致严重的聚集诱导荧光淬灭效应，显著降低其荧光亮度与成像质量。研究表明，增强荧光分子聚集体的光吸收强度可以有效促进激发光的吸收并提升荧光成像的信噪比。因此，为了优化近红外二区荧光分子性能，需对其聚集态光吸收强度进行精准评估。

4、目前主要依赖实验方法实现近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度的测量，但存在以下问题：（1）实验条件（如浓度、温度、溶剂环境本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，S1具体包括：

3.如权利要求1所述的近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，S2具体包括：

4.如权利要求1所述的近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，S3中所述综合考量因子的计算包括：

5.如权利要求1所述的近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，S4中评估近红外二区荧光分子聚集体的光吸收强度时，综合考量因子值越大，近红外二区荧光分子聚集体...

【技术特征摘要】

1.一种近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，s1具体包括：

3.如权利要求1所述的近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，s2具体包括：

4.如权利要求1所述的近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，s3中所述综合考量因子的计算包括：

5.如权利要求1所述的近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，s4中评估近红外二区荧光分子聚集体的光吸收强度时，综合考量因子值越大，近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度越高，从而筛选出光吸收强度最高的分子聚集体。

6.如权利要求3所述的近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，采用量子力学方法和分子力学方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：张玉瑾，吴胜，胡伟，赵丽云，张静，
申请(专利权)人：齐鲁工业大学山东省科学院，
类型：发明
国别省市：