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本发明提供一种近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法及系统，涉及荧光探针技术领域，包括：构建近红外二区荧光分子聚集体的结构，并选取聚集体内的多个代表性构象，建立包括高层区域和低层区域的分层计算模型；对多个代表性构象进行结构优化得到其稳定...
该专利属于齐鲁工业大学（山东省科学院）所有，仅供学习研究参考，未经过齐鲁工业大学（山东省科学院）授权不得商用。

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