【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光学膜。本专利技术涉及具有需要的波长分散特性、光弹性系数低、耐热性高的光学膜。
技术介绍
光学膜被用作相位差膜、偏振片的保护膜。相位差膜用于液晶显示装置等中,具有色补偿、视角扩大、防反射等功能。作为相位差膜,已知有λ/4板、λ/2板,作为其的材料,使用聚碳酸酯、聚醚砜、聚砜等。由这些材料形成的λ/4板、λ/2板具有波长越短相位差越大的性质。因此,存在能作为λ/4板、λ/2板发挥作用的波长被限于特定波长的问题。作为在宽广区域控制波长的方法,已知有以特定角度层叠相位差的波长依赖性不同的2片以上的双折射膜的方法(日本特开平2-120804号公报:专利文献1)。该方法需要将多个相位差膜贴合的工序、对贴合角度进行调整的工序等,在生产率方面存在问题。此外,相位差膜整体的厚度变大,因此还存在光线透射率降低而变暗的问题。近年来,提出了不进行这样的层叠,而是采用一片膜在宽广区域控制波长的方法(日本特许第3325560号公报:专利文献2)。这是使用由具有正折射率各向异性的单元和具有负折射率各向异性的单元形成的聚碳酸酯共聚物的方法。然而,该聚碳酸酯共聚物由于含有源于芴系 ...
【技术保护点】
一种光学膜,由含有单元A和单元B、且单元A与单元B的摩尔比A/B为10/90~90/10的聚碳酸酯共聚物形成,满足下述式(1), R(450)<R(550)<R(650) (1) 其中,R(450)、R(550)和R(650) 分别表示波长450nm、550nm、650nm处的膜面内的相位差值; 所述单元A用下述式表示, *** 式中,R↓[1]和R↓[2]各自独立地表示氢原子、碳原子数1~10的含有芳香族基团或不含芳香族基团的烃基、或者卤素原 子,R↓[3]和R↓[4]各自独立地表示碳原子数1~10的含有芳香 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-6-19 161134/2007;JP 2007-8-2 202113/20071、一种光学膜,由含有单元A和单元B、且单元A与单元B的摩尔比A/B为10/90~90/10的聚碳酸酯共聚物形成,满足下述式(1),R(450)<R(550)<R(650) (1)其中,R(450)、R(550)和R(650)分别表示波长450nm、550nm、650nm处的膜面内的相位差值;所述单元A用下述式表示,式中,R1和R2各自独立地表示氢原子、碳原子数1~10的含有芳香族基团或不含芳香族基团的烃基、或者卤素原子,R3和R4各自独立地表示碳原子数1~10的含有芳香族基团或不含芳香族基团的烃基,m和n各自独立地表示0~4的整数,p和q各自独立地表示0以上的整数;所述单元B用下述式表示,式中,R5~R8各自独立地表示氢原子或碳原子数1~10的烷基。2、如权利要求1所述的膜,满足下述式(2)和(3),0<R(450)/R(550)<1 (2)1.01<R(650)/R′(550)<2 (3)。3、如权利要求2所述的膜,聚碳酸酯共聚物含有单元A1和单元B,且单元A1与单元B的摩尔比A1/B为10/90以上且小于40/60,光弹性系数的绝对值在20×10-12Pa-1以下,所述单元A1用下述式表示,式中,R1和R2各自独立地表示氢原子、碳原子数1~10的含有芳香族基团或不含芳香族基团的烃基、或者卤素原子,m和n各自独立地表示0~4的整数;所述单元B用下述式表示,式中,R5~R8各自独立地表示氢原子或碳原子数1~10的烷基。4、如权利要求3所述的膜,聚碳酸酯共聚物含有单元A2和单元B1,所述单元A2用下述式表示,所述单元B1用下述式表示,5、如权利要求2所述的膜,聚碳酸酯共聚物含有单元A3和单元B,且单元A3与单元B的摩尔比A3/B为10/90以上且小于65/35的范围,光弹性系数的绝对值在25×10-12Pa-1以下,所述单元A3用下述式表示,式中,R1和R2各自独立地表示氢原子、碳原子数1~10的含有芳香族基团或不含芳香族基团的烃基、或者卤素原子,R3和R4各自独立地表示碳原子数1~10的含有芳香族基团或不含芳香族基团的烃基,m和n各自独立地表示0~4的整数,p和q各自独立地表示1以上的整数;所述单元B用下述式表示,式中,R5~R8各自独立地表示氢原子或碳原子数1~10的烷基。6、如权利要求5所述的膜,聚碳酸酯共聚物含有单元A4和单元B1,所述单元A4用下述式表示,所述单元B1用下述式表示,7、如权利要求1所述的膜,满足下述式(4)~(6),R(450)<0 (4)-10<R(550)<10 (5)0<R(650) (6)。8、如权利要求7所述的膜,聚碳酸酯共聚物含有单元A1和单元B,且单元A1与单元B的摩尔比A1/B为40/60以上且小于60/40,光弹性系数的绝对值在25×10-12Pa...
【专利技术属性】
技术研发人员:本吉哲也,安藤正寿,上野诚,西嶋明子,
申请(专利权)人:帝人化成株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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