基板处理设备及方法技术

本发明专利技术公开了一种基板处理设备及方法，该基板处理设备包括：液处理槽，用于储存处理液，以对基板进行液处理；缓存装置，用于接收并暂存干燥处理后的基板；干燥腔，用于对液处理后的基板进行干燥处理，且干燥腔可移动地设置在液处理槽和缓存装置上方。本申请通过在基板处理设备中配置缓存装置，并利用缓存装置暂存完成液处理和干燥处理后的基板，避免基板在干燥处理后，移回液处理槽待取，进而防止基板被液处理槽内的处理液污染，同时避免液处理槽被干燥处理后的基板占用，无法对其它基板进行液处理。综上所述，本申请实现了减小基板液处理和干燥处理期间的被处理液污染的风险，同时提升基板处理效率的效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体设备领域，进一步地涉及一种基板处理设备及方法。

技术介绍

1、在半导体设备领域，干燥工艺是基板湿法清洗后必不可少的工艺。湿法清洗作为一种非常重要的表面处理手段，被用于清洗芯片制造过程中各工序引入的各种污染物。但基板清洗后，如果不及时干燥，表面会发生氧化反应，并形成水渍污染。因此，在清洗设备上通常附有干燥装置。

2、传统的干燥工艺包括旋转干燥和ipa(iso-propyl alcohol，异丙醇)干燥，前者通过高速旋转基板以甩掉水分，后者利用挥发性ipa蒸汽替换基板表面的水分，使之干燥。

3、如图1所示，是一种适用于ipa干燥工艺的基板处理设备300结构示意图，该基板处理设备300包括液处理槽310和干燥腔320。液处理槽310用于对基板进行湿法清洗，干燥腔320可移动的配置于液处理槽310的上方，用于打开或闭合液处理槽310的顶部开口，并容纳完成清洗后的基板以对其进行干燥处理。此外，液处理槽310内部设置有基板移动机构311，干燥腔320内设置有基板夹持机构321，基板移动机构311用于向上或向下移动基板，基板夹本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其特征在于，所述缓存装置包括：

3.根据权利要求2所述的基板处理设备，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的基板处理设备，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的基板处理设备，其特征在于，包括：

6.一种基板处理方法，适用于权利要求1至5任一项所述的基板处理设备，其特征在于，包括：

7.根据权利要求6所述的基板处理方法，其特征在于，所述步骤S10包括：

8.根据权利要求6所述的基板处理方法，其特征在于，所述步骤S20包括：...

【技术特征摘要】

1.一种基板处理设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其特征在于，所述缓存装置包括：

3.根据权利要求2所述的基板处理设备，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的基板处理设备，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的基板处理设备，其特征在于，包括：

6.一种基板处理方法，适用于权利要求1至5任一项所述的基板处理设备，其特征在于，包括：

7.根据权利要求6所述的基板处理方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯凯，胡海波，刘成柱，张祝祥，刘璇，王亭亭，
申请(专利权)人：盛美半导体设备上海股份有限公司，
类型：发明
国别省市：