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本发明公开了一种基板处理设备及方法，该基板处理设备包括：液处理槽，用于储存处理液，以对基板进行液处理；缓存装置，用于接收并暂存干燥处理后的基板；干燥腔，用于对液处理后的基板进行干燥处理，且干燥腔可移动地设置在液处理槽和缓存装置上方。本申请通...
该专利属于盛美半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛美半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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