【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及磁控溅射，尤其涉及一种磁控溅射镀膜设备、旋转阴极及在线可调磁棒。
技术介绍
1、磁控溅射阴极是真空磁控溅射镀膜设备的核心部件，主要应用在半导体、光学、节能玻璃、液晶面板、光伏、车载触摸屏等高科技领域。磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向，束缚和延长电子的运动路径，提高电子的电离概率和有效地利用了电子的能量，产生的离子轰击靶筒，从靶筒上溅射出靶筒原子，靶筒原子沉积到基片上形成需要的功能性的薄膜。
2、镀膜的均匀性受到磁场均匀性、电场均匀性、工艺气氛均匀性、靶筒品质和挡板开口均匀性等多方面因素的影响；且镀膜均匀性在靶筒使用初期到末期呈现逐渐变差的规律。近年来镀膜行业对镀膜均匀性的要求越来越高，一般通过调节磁场在靶筒表面的强度分布达到调节镀膜均匀性的目的。现有技术一般需要调节磁场时，需要对整个镀膜设备破空停机，拆开旋转阴极抽出靶筒内的磁棒才能调节磁棒的磁场强度，会造成设备长时间停机，减小设备产能，且可能需要多次停机调节磁场，才能达到所需的镀膜均匀性。在靶筒使用一段时间后，由于镀膜均匀性逐渐变差，需要重新破空调
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【技术保护点】
1.一种在线可调磁棒，其特征在于，包括：支撑梁（101）、磁铁组件（105）、至少一个驱动组件、驱动接头（102）、支撑接头（107）和支撑法兰（109）；
2.根据权利要求1所述的在线可调磁棒，其特征在于，支撑梁（101）内部设有从驱动接头（102）向支撑接头（107）方向延伸的冷却通道，所述冷却通道靠近支撑接头（107）一端侧壁设有连通孔，驱动接头（102）内设有与所述冷却通道连通的连通腔。
3.根据权利要求1所述的在线可调磁棒，其特征在于，支撑接头（107）内部设有通腔，电传输结构（10）为穿过所述通腔的电缆。
4.根据权利要...
【技术特征摘要】
1.一种在线可调磁棒，其特征在于，包括：支撑梁（101）、磁铁组件（105）、至少一个驱动组件、驱动接头（102）、支撑接头（107）和支撑法兰（109）；
2.根据权利要求1所述的在线可调磁棒，其特征在于，支撑梁（101）内部设有从驱动接头（102）向支撑接头（107）方向延伸的冷却通道，所述冷却通道靠近支撑接头（107）一端侧壁设有连通孔，驱动接头（102）内设有与所述冷却通道连通的连通腔。
3.根据权利要求1所述的在线可调磁棒，其特征在于，支撑接头（107）内部设有通腔，电传输结构（10）为穿过所述通腔的电缆。
4.根据权利要求1所述的在线可调磁棒，其特征在于，支撑接头（107）远离支撑梁（101）一端设有与电传输结构（10）连接的法兰插头（110）。
5.根据权利要求1所述的在线可调磁棒，其特征在于，驱动组件包括驱动机构（103）和调节连接件（104），磁铁组件（105）通过至少一个调节连接件（104）与支撑梁（101）连接，驱动机构（103）与调节连接件（104）连接用于驱动调节连接件（104）移动以调节磁铁组件（105）与支撑梁（101）表面之间的距离。
6.根据权利要求5所述的在线可调磁棒，其特征在于，驱动机构（103）采用防水电机，所述电传输结构（10）靠近支撑梁（101）一端设有内连接端（108），驱动机构（103）通过防水电缆与内连接端（108）连接。
7.根据权利要求1所述的在线可调磁棒，其特征在于，还包括密封罩，密封罩在驱动电机外部形成密封...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭江涛，游锦山，
申请(专利权)人：中科纳微真空科技合肥有限公司，
类型：发明
国别省市：
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