晶圆表面形貌图像成像方法、装置、设备、介质及产品制造方法及图纸

本申请公开了一种晶圆表面形貌图像成像方法、装置、设备、介质及产品，应用于集成电路技术领域。本方法中，通过波形发生器以一定频率采集探测器输出的第一电压信号。由于探测器的信号不是瞬时的，存在拖尾现象，则上一个像素点的信号会影响下一个像素点的信号；因此，本申请会从多个第一电压信号中，筛选出处于目标时段中的第二电压信号；进而生成灰度图像。由于目标时段为信号采集时段中预设时长之后的时段，因此这段时间内的信号受上一个像素点的影响较小甚至不受影响。可见，本实现方式在采集信号时，将信号采集时段中靠前的信号舍弃，而仅采用不受影响的后半段信号，使得采用的信号更加准确，进而能够得到晶圆更真实的形貌特征。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于集成电路，尤其涉及一种晶圆表面形貌图像成像方法、装置、设备、介质及产品。

技术介绍

1、扫描电子显微镜应用于半导体行业的良率检测方面，通过将电子束打在晶圆表面，会产生二次电子(secondary electron，se)和背散射电子(back scattered electron，bse)等电子信号。实际应用中，探测器会依次采集晶圆样品上各像素点的se和bse，对于每个像素点，在其信号采集时段内，探测器会持续性地进行电子信号的采集，并输出电压信号。波形发生器以固定的频率采集探测器输出的电压信号。该电压信号可反映各像素点的衬度，因此可基于电压信号进行成像，以反映晶圆表面的形貌和电性缺陷。

2、但是，探测器的信号不是瞬时的，存在较长的拖尾，如此，前一个像素点的电压信号将会影响当前像素点的电压信号，进而导致各像素点的信号并不准确，生成的图像无法准确地反映出晶圆的表面形貌。

技术实现思路

1、本申请实施例提供一种晶圆表面形貌图像成像方法、装置、设备、介质及产品，能够准确地反映出晶圆的表面形貌。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种晶圆表面形貌图像成像方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的晶圆表面形貌图像成像方法，其特征在于，在各像素点对应的所述第一电压信号中，筛选出处于所述目标时段内的第二电压信号之前，所述方法还包括：

3.根据权利要求2所述的晶圆表面形貌图像成像方法，其特征在于，所述基于所述测试电压信号，确定所述预设时长，包括：

4.根据权利要求2所述的晶圆表面形貌图像成像方法，其特征在于，所述基于所述测试电压信号，确定所述预设时长，包括：

5.根据权利要求1至4任意一项所述的晶圆表面形貌图像成像方法，其特征在于，在所述在晶圆样品上各像素点对应...

【技术特征摘要】

1.一种晶圆表面形貌图像成像方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的晶圆表面形貌图像成像方法，其特征在于，在各像素点对应的所述第一电压信号中，筛选出处于所述目标时段内的第二电压信号之前，所述方法还包括：

3.根据权利要求2所述的晶圆表面形貌图像成像方法，其特征在于，所述基于所述测试电压信号，确定所述预设时长，包括：

4.根据权利要求2所述的晶圆表面形貌图像成像方法，其特征在于，所述基于所述测试电压信号，确定所述预设时长，包括：

5.根据权利要求1至4任意一项所述的晶圆表面形貌图像成像方法，其特征在于，在所述在晶圆样品上各像素点对应的信号采集时段内，对相应的像素点进行多次第一电压信号的采集之前，所述方法还包括：

【专利技术属性】
技术研发人员：朱芃睿，孟庆浪，
申请(专利权)人：东方晶源微电子科技北京股份有限公司，
类型：发明
国别省市：