【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及烧结制造,尤其是涉及一种芯片共晶烧结的压接方法、装置及电子设备。
技术介绍
1、相关技术中,为提高芯片共晶烧结质量,降低空洞率,在芯片共晶烧结时,通常会在芯片表面加重力压块或者局部增加压力(如,针接触式或镂空式压块等),该方式中,压块尺寸需要对应芯片尺寸,加工难度较大;并且,在作业过程中因压块较重,无法使用机台取放,需要人工介入取放,容易导致芯片表面划伤。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种芯片共晶烧结的压接方法、装置及电子设备,以降低压块的加工难度,并避免芯片表面划伤。
2、本专利技术提供的一种芯片共晶烧结的压接方法,方法包括:接收用户发出的第一指令和第二指令;根据第一指令拾取亲磁金属薄片,并将亲磁金属薄片放置在预组装基板的芯片上,得到组装后的基板;其中,预组装基板由下至上依次包括:预设基板、预成型焊片和芯片;根据第二指令,将组装后的基板放置在预设磁性工装内,以通过磁性工装内的磁铁的磁力吸附亲磁金属薄片,以压接芯片。
3、进一步的,亲磁金
...【技术保护点】
1.一种芯片共晶烧结的压接方法,其特征在于,所述方法包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述亲磁金属薄片的厚度小于2毫米。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述亲磁金属薄片的尺寸为所述芯片的尺寸的80%—100%。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述磁性工装内的磁铁位于所述芯片的正下方。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述磁铁的耐温大于350°。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述磁铁的上表面与所述组装后的基板的下表面直接接触;或者,所述磁铁的上表面
...【技术特征摘要】
1.一种芯片共晶烧结的压接方法,其特征在于,所述方法包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述亲磁金属薄片的厚度小于2毫米。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述亲磁金属薄片的尺寸为所述芯片的尺寸的80%—100%。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述磁性工装内的磁铁位于所述芯片的正下方。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述磁铁的耐温大于350°。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述磁铁的上表面与所述组装后的基板的下表面直接接触;...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨琼,宋军,
申请(专利权)人:苏州能讯高能半导体有限公司,
类型:发明
国别省市:
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