一种激光直写多光束刻写系统技术方案

本技术提出一种激光直写多光束刻写系统，该系统包括光源发生装置、光源分光装置、光束调控装置、倍率调整装置、反射折向装置及光束聚焦装置，该激光直写多光束刻写系统采用AOM分光镜将激光发生器发出的激光光束分隔形成多路光束，还采用多件AOD调光镜对各路光束分别进行能量和偏振角实时处理，使其达到刻写要求，并且由各AOD调光镜分别对各光束的开闭状态进行切换，当需要刻写最细线条时打开单路光束，当刻写粗线时打开所有光束，有利于提升刻写效率，并且降低设备成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术集成电路生产设备，尤其涉及一种激光直写多光束刻写系统。

技术介绍

1、专利文献cn117539129a公开一种激光直写光刻系统，该系统包括依次设置的激光镜、色散补偿模块、分光模块和刻写模块，由激光镜产生飞秒激光至色散补偿模块，飞秒激光经过色散补偿模块出射带有负色散的脉冲光束，带有负色散的脉冲光束经过分光模块进行偏振方向调节，同时负色散与分光模块中光纤阵列产生的正色散相互抵消，输出多通道飞秒脉宽刻写光束，多通道飞秒脉宽刻写光束经过刻写模块进行准直投射，输出多通道衍射极限刻写光斑进行并行刻写，实现飞秒量级的刻写光束脉宽，提高了刻写效率。然而，这种光刻系统采用单一光束系统，其只能最终获得单一直径的光斑，也即单一工作激光光束，其运行效率较低，运行稳定性也有待提升。因此，有必要对这种光刻系统进行结构优化，以克服上述缺陷。

技术实现思路

1、本技术的目的是提供一种激光直写多光束刻写系统。

2、本技术为解决其技术问题所采用的技术方案是：

3、一种激光直写多光束刻写系统，其包括：

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【技术保护点】

1.一种激光直写多光束刻写系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种激光直写多光束刻写系统，其特征在于，光源发生装置包括：

3.根据权利要求1所述的一种激光直写多光束刻写系统，其特征在于，光源分光装置包括：

4.根据权利要求1所述的一种激光直写多光束刻写系统，其特征在于，光束调控装置包括：

5.根据权利要求1所述的一种激光直写多光束刻写系统，其特征在于，倍率调整装置包括：

6.根据权利要求1所述的一种激光直写多光束刻写系统，其特征在于，反射折向装置包括：

7.根据权利要求1所述的一种激光直写多光束刻写系统...

【技术特征摘要】

1.一种激光直写多光束刻写系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种激光直写多光束刻写系统，其特征在于，光源发生装置包括：

3.根据权利要求1所述的一种激光直写多光束刻写系统，其特征在于，光源分光装置包括：

4.根据权利要求1所述的一种激光直写多光束刻写系统，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：张旭东，
申请(专利权)人：上海卓晶半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：