【技术实现步骤摘要】
本技术涉及集成电路生产设备，尤其涉及一种具有减震结构的光刻机镜组平台。
技术介绍
1、在光刻过程中，镜组平台的作用是将掩模版上的电路图案精确投影到硅片上。通过精确控制光束的路径和强度，以及调整反射镜和透镜的位置和姿态，镜组平台能够确保电路图案在硅片上的精确复制。同时，由于硅片表面可能存在微小的起伏和缺陷，镜组平台还需要具备一定的自适应能力，以应对这些变化并确保光刻质量，其精度和稳定性直接决定了光刻机的性能和质量。
2、专利文献cn117572727a公开一种运动平台，其包括工件台、气浮装置、线性集成模组及掩模台，气浮装置设置于工件台的底部，以用于向工件台提供气压支撑，线性集成模组搭载在工件台上并以气浮形式驱动，以使线性集成模组至少输出两个以正交的形式叠堆布置的交错轴向的线性自由度，掩模台设置于线性集成模组的末端，以使线性集成模组执行线性自由度时驱动掩模台实现跟踪定位。然而，这种平台的结构较为复杂，在运行中容易产生振动，影响光刻机的平稳运行。因此，有必要对其进行结构优化，以克服上述缺陷。
技术实现思
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1.一种具有减震结构的光刻机镜组平台，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种具有减震结构的光刻机镜组平台，其特征在于，支撑承载组件包括：
3.根据权利要求2所述的一种具有减震结构的光刻机镜组平台，其特征在于，竖向驱动组件包括：
4.根据权利要求3所述的一种具有减震结构的光刻机镜组平台，其特征在于，竖向减震组件包括：
5.根据权利要求4所述的一种具有减震结构的光刻机镜组平台，其特征在于，镜组载托组件包括：
6.根据权利要求5所述的一种具有减震结构的光刻机镜组平台，其特征在于，横向驱动组件包括：
...【技术特征摘要】
1.一种具有减震结构的光刻机镜组平台，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种具有减震结构的光刻机镜组平台，其特征在于，支撑承载组件包括：
3.根据权利要求2所述的一种具有减震结构的光刻机镜组平台，其特征在于，竖向驱动组件包括：
4.根据权利要求3所述的一种具有减震结构的光刻机镜组平台，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：阮裕栋，
申请(专利权)人：上海卓晶半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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