一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法技术

技术编号:45439739 阅读:21 留言:0更新日期:2025-06-04 19:21
本申请公开了一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,包括以下步骤:步骤一,制备银凸块;步骤二,在银凸块外围包覆一层薄金。具有以下优点:镀层均匀,镀层高度一致,成本低廉,解决了银合金容易氧化或硫化的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,属于半导体。


技术介绍

1、凸块技术是半导体封装中的关键工艺,主要用于倒装芯片(flip chip)封装,实现芯片与基板的高密度互连。倒装芯片的话,芯片上的焊盘会通过凸块(bump)连接到基板上,而金凸块就是其中一种凸块材料,用金制成的,也有的采用银合金凸块代替纯金凸块。其制作方法有电镀、化学沉积或者物理气相沉积,不过电镀法更常见,因为金属电镀在半导体工艺中用得很多。比如,先沉积一层种子层,然后通过光刻形成图案,再电镀金,最后去除光刻胶和多余的种子层,这样就能形成凸块结构。

2、现有技术中银合金凸块封装技术存在电镀不均匀,导致凸块高度不一,影响后续的连接;还有成本控制的问题,因为金的价格高,如何优化工艺减少金的使用量,同时保持性能,且银合金存在容易氧化或硫化的问题。


技术实现思路

1、本专利技术要解决的技术问题是针对以上不足,提供一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,镀层均匀,镀层高度一致,成本低廉,解决了银合金容易氧化或硫化的问题。

<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,其特征在于:包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,其特征在于:所述步骤二中采用化学镀金的方式在银凸块外围包覆一层薄金。

3.如权利要求1所述的一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,其特征在于:所述银凸块外围薄金的厚度为0.05-0.1um。

4.如权利要求1所述的一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,其特征在于:所述步骤二具体包括以下步骤:

5.如权利要求4所述的一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,其特征在于:所述步骤5.1具体包括以下步骤:

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【技术特征摘要】

1.一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,其特征在于:包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,其特征在于:所述步骤二中采用化学镀金的方式在银凸块外围包覆一层薄金。

3.如权利要求1所述的一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,其特征在于:所述银凸块外围薄金的厚度为0.05-0.1um。

4.如权利要求1所述的一种金包银凸块半导体封装结构的制造方法,其特征在于:所述步骤二具体包括以下步骤:

5.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱贵武卢旋瑜徐伟伟李永鑫吴振嘉杜美玉
申请(专利权)人:晶旺半导体山东有限公司
类型:发明
国别省市:

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