制备CVD ZnSe的原料气预处理系统及方法技术方案

本发明专利技术涉及红外晶体材料制备技术领域，具体提供了一种制备CVD ZnSe的原料气预处理系统及方法，该制备CVD ZnSe的原料气预处理系统包括依次连通的气体分级吸收过滤装置、循环缓冲装置和精密控制装置，以确保原料气进入CVD反应装置前有效过滤和纯化，且通过循环缓冲装置稳定气体压力，以及通过精密控制装置维持沉积过程动态平衡。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及红外晶体材料制备，具体涉及一种制备cvd znse的原料气预处理系统及方法。

技术介绍

1、cvd znse作为一种优异的红外光学材料，目前主流制备方法是采用化学气相沉积法(cvd)制备，该方法制备的材料杂质少、材料致密，但其对原材料锌和硒化氢的纯度提出了极高的要求。现在市面上的硒化氢气体纯度虽然能够达到99.9％，但气瓶内部仍不可避免的存在重组分及轻组分，同时h2se会不可避免的微量分解产生se单质，这类杂质会造成制备过程中反应波动、孔洞、夹杂等缺陷，这类缺陷与透射光波长相近，会形成明显的吸收和散射效应，而且波长越短，散射越大，导致材料透过率下降。

2、同时受温度环境等影响，气体输送压力同样会对流量稳定性产生影响，cvd法制备znse需要保持一个数十天的稳定沉积，过程中的气体纯度、压力及流量的波动，都会造成沉积过程中的动态平衡被打破，进而造成杂质产生及分层，会极大影响材料的光学均匀性，无法满足激光器、高分辨率成像仪的使用需求。

3、因此针对以上不足，特提出本专利技术。

技术实现思路本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种制备CVD ZnSe的原料气预处理系统，其特征在于，包括依次连通的气体分级吸收过滤装置、循环缓冲装置和精密控制装置；所述气体分级吸收过滤装置用于外接原料气源，所述精密控制装置用于连通CVD反应装置，以确保原料气进入CVD反应装置前有效过滤和纯化，且通过所述循环缓冲装置稳定气体压力，以及通过所述精密控制装置维持沉积过程动态平衡；

2.如权利要求1所述的制备CVD ZnSe的原料气预处理系统，其特征在于，所述气体分级吸收过滤装置包括连通设置的多级过滤装置和吸附装置；所述多级过滤装置连通所述原料气源，所述吸附装置连通所述循环缓冲装置；

3.如权利要求2所述的制备...

【技术特征摘要】

1.一种制备cvd znse的原料气预处理系统，其特征在于，包括依次连通的气体分级吸收过滤装置、循环缓冲装置和精密控制装置；所述气体分级吸收过滤装置用于外接原料气源，所述精密控制装置用于连通cvd反应装置，以确保原料气进入cvd反应装置前有效过滤和纯化，且通过所述循环缓冲装置稳定气体压力，以及通过所述精密控制装置维持沉积过程动态平衡；

2.如权利要求1所述的制备cvd znse的原料气预处理系统，其特征在于，所述气体分级吸收过滤装置包括连通设置的多级过滤装置和吸附装置；所述多级过滤装置连通所述原料气源，所述吸附装置连通所述循环缓冲装置；

3.如权利要求2所述的制备cvd znse的原料气预处理系统，其特征在于，所述多级过滤装置包括串联设置的一级过滤器和二级过滤器，所述一级过滤器连通所述原料气源，所述二级过滤器连通所述吸附装置；

4.如权利要求3所述的制备cvd znse的原料气预处理系统，其特征在于，所述一级过滤器包括不锈钢复合网滤芯、石英滤芯中的一种；和/或，

5.如权利要求2所述的制备cvd znse的原料气预处理系统，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：李冬旭，刘泽钰，刘建东，徐国众，杨建纯，李扩社，黄万才，
申请(专利权)人：山东有研国晶辉新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：