【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于在外延反应器中的衬底上沉积半导体膜的可移除反应单元的预防性维护操作的领域。本专利技术还涉及多室组件的领域，用于在预防性维护操作期间搬运和调节可移除反应单元，特别是当所述反应单元用于在衬底上外延沉积半导体膜的反应器中时。本专利技术还涉及用于搬运和调节外延反应器中使用的可移除反应单元和衬底保持器的多室组件。
技术介绍
1、用于半导体工业的外延生长设备可以包括反应器，该反应器包含发生化学气相沉积过程的反应和沉积室。作为该过程的结果，室的多个部分将经受不希望的产物堆积，并且在多个沉积循环之后将需要清洁或替换，以避免影响外延沉积的质量和性能。
2、结果，反应室内的可消耗部件以及构成反应室本身的壁和零件需要预防性维护(pm)操作，这需要周期性地进入反应室以移除、清洁或替换所述反应室及其相关部件和零件。
3、这些操作严重影响反应器的停机时间及其产量。这个问题在用于沉积sic的热壁反应器中尤其明显，其中维护操作可能一周发生一次或多次，并导致可能持续多个小时的中断。
4、一般来说，反应室相关部件的移除...
【技术保护点】
1.一种用于搬运外延反应器的至少一个可移除反应单元(1000)的多室组件(10)，包括：
2.根据前一权利要求所述的多室组件，还包括机动化机械系统(500)，该机动化机械系统(500)包括至少一个室间致动器，该室间致动器适于抓取所述可移除反应单元并通过所述转移装置将可移除反应单元从所述第一室位移到所述第二室，和/或反之亦然。
3.根据前述权利要求中任一项所述的多室组件，其中，所述转移装置包括至少一个转移孔和适于打开和关闭所述至少一个转移孔的至少一个转移闸阀。
4.根据权利要求1或2所述的多室组件，其中，所述转移装置包括：
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