【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造设备领域，特别是涉及一种晶圆机械手。
技术介绍
1、在晶圆的湿法工艺中，例如，晶圆的单片式清洗工艺中，会使用到晶圆传输设备从而实现晶圆在不同工艺模块之间的传输。晶圆机械手是晶圆传输设备的重要构件，用于在传输晶圆的过程中保持晶圆。
2、如图1和图2所示，图1显示为现有技术中晶圆机械手保持晶圆的俯视示意图。图2显示为图1中的晶圆机械手的立体示意图。晶圆机械手包括主体10和限位部件201、限位部件202、推动部件30。在保持晶圆50的过程中，通常只有晶圆机械手的推动部件30、限位部件201和限位部件202与晶圆50的周缘接触，晶圆机械手的主体10不会直接接触到晶圆50。
3、然而，在某些工艺流程中，为了起到保护作用，例如，从刷洗腔传输到清洗腔，晶圆表面一般都覆盖有湿润的液膜。结合图3和图4，图3显示为现有技术中晶圆机械手的主体与晶圆背面液膜关系图，图4显示为量测设备导出的现有技术中晶圆背面印记情况的结果图。由于重力作用，晶圆机械手在保持晶圆50的过程中，晶圆50背面的液膜40会不可避免的与晶圆机...
【技术保护点】
1.一种晶圆机械手，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的晶圆机械手，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的晶圆机械手，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的晶圆机械手，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的晶圆机械手，其特征在于
6.根据权利要求1至5任一项所述的晶圆机械手，其特征在于，
7.根据权利要求1至5任一项所述的晶圆机械手，其特征在于，
8.根据权利要求1至5任一项所述的晶圆机械手，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的晶圆机械手，其特征在于，
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