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【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及炉温测量,具体地涉及一种炉温均匀性测量装置。
技术介绍
1、目前,不同类型的热处理炉均需要按使用周期进行炉温均匀性测量,测温时需要根据热处理炉的类型确定有效加热区以及测定周期,以及测温点数。此外,在热处理炉大修或改造、改变有效加热区位置和扩大体积、扩大工作温度范围等条件改变时,也需要重新对炉温均匀性进行测量。
2、然而,现有热处理炉温均匀性测量装置通常采用简易测温架,大小固定,对不同热处理炉进行测温时需要投入多个测温装置,测温后,测温装置则闲置,占用场地空间。同时,在炉温均匀性测量过程中,由于高温加热,测温装置容易发生变形、氧化,影响测温准确性,且高温氧化后,常用测温装置为一次性装置,造成资源浪费严重。再者,热处理炉在高温下重复使用以及维修过程中,为确保一定空间的有效加热区间,不进行大修,原有热处理测温装置只能确定热处理炉的有效加热区间是否满足要求,不能反向确定具体的有效加热区间,本专利技术针对以上问题提出了一种新的解决方案。
技术实现思路
1、本专利技术为了克服上述缺点中的至少一个,提供一种炉温均匀性测量装置。本专利技术的目的可以通过采用如下技术方案达到:
2、本专利技术提供的一种炉温均匀性测量装置,包括:
3、测温组件,所述测温组件包括三棱柱形的支撑架,所述支撑架上设有测温元件;
4、延长支架,所述延长支架活动连接于所述支撑架,所述延长支架包括延长杆,至少部分所述延长杆凸出于所述支撑架,所述延长杆上设有测温元件。
...【技术保护点】
1.一种炉温均匀性测量装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,所述测温组件(2)的数量为一个或至少两个。
3.根据权利要求1所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,
4.根据权利要求1所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,所述支撑架(21)包括:
5.根据权利要求4所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,所述支撑架(21)包括:
6.根据权利要求4所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,所述测温组件(2)还包括:
7.根据权利要求6所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,所述测温组件(2)还包括:
8.根据权利要求1-7任意一项所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,所述炉温均匀性测量装置还包括:
9.根据权利要求8所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,所述吊装件(1)包括:
10.根据权利要求1所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,所述炉温均匀性测量装置还包括:
【技术特征摘要】
1.一种炉温均匀性测量装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,所述测温组件(2)的数量为一个或至少两个。
3.根据权利要求1所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,
4.根据权利要求1所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,所述支撑架(21)包括:
5.根据权利要求4所述的炉温均匀性测量装置,其特征在于,所述支撑架(21)包括:
6.根据权利要求4所述的炉温...
【专利技术属性】
技术研发人员:王飞宇,邹鹏,王全振,张尔康,刘业超,蒋申柱,陈炜,于广义,王思倩,曲德毅,于晃,邵帅,刘爽庆,
申请(专利权)人:沈阳透平机械股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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