【技术实现步骤摘要】
本技术涉及反应式等离子体镀膜，尤其涉及一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构。
技术介绍
1、反应式等离子体沉积镀膜是属低压大电流电弧放电离子镀方法：等离子产生器将氩气解离成氩离子产生大量电子，后利用偏转磁场将电子束转弯并聚焦于靶锭将要镀膜物质加热并直接升华为气相。气相粒子经过等离子区高度解离成离子态，此时由反应腔室内布气气孔通入的反应气体也在此区域形成离子态。高游离状态的离子结合后沉积于基板，形成膜层。
2、目前由于该镀膜方式速度较快，为保证膜层性质的均匀性，对于反应区特别是等离子区的反应气体布气均匀性有较高要求，现有气路仅单路气体通入，不利于实现反应气体在等离子区的均匀分布，且不便于对缓冲器进行安装拆卸。因此，本领域技术人员提供了一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了解决现有技术中不利于实现反应气体在等离子区的均匀分布、不便于对缓冲器进行拆卸的问题，而提出的一种应用于反应式等离子体镀膜设...
【技术保护点】
1.一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，包括箱体(1)，其特征在于，所述箱体(1)背面设置有电子枪(2)，所述箱体(1)的内部设有工艺腔，还包括：
2.根据权利要求1所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述缓冲器(3)前端表面开设有多个气孔(4)，所述气孔(4)的直径远大于靶灰直径。
3.根据权利要求1所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述拆卸组件包括开设于缓冲器(3)两端侧壁的第一螺纹孔(301)、开设于箱体(1)两端侧壁的第二螺纹孔(302)以及螺纹连接在第一螺纹孔(...
【技术特征摘要】
1.一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，包括箱体(1)，其特征在于，所述箱体(1)背面设置有电子枪(2)，所述箱体(1)的内部设有工艺腔，还包括：
2.根据权利要求1所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述缓冲器(3)前端表面开设有多个气孔(4)，所述气孔(4)的直径远大于靶灰直径。
3.根据权利要求1所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述拆卸组件包括开设于缓冲器(3)两端侧壁的第一螺纹孔(301)、开设于箱体(1)两端侧壁的第二螺纹孔(302)以及螺纹连接在第一螺纹孔(301)和第二螺纹孔(302)之间的螺栓(303)。
4.根据权利要求2所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述快插件包括设置在第一气管(5)外壁的第一固定板(6)、开设于第一固定板(6)下端的限位槽(601)、开设于第一固定板(6)侧壁的第一滑槽(602)、开设于第一固定板(6)底部的卡槽(603)、设置在第一固定板(6)侧壁的限位块(604)、设置在限位块(604)与第一固定板(6)之间的活动杆(605)、设置在活动杆(605)...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：仁烁光能苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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