【技术实现步骤摘要】
本技术涉及反应式等离子体镀膜，尤其涉及一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构。
技术介绍
1、反应式等离子体沉积镀膜是属低压大电流电弧放电离子镀方法：等离子产生器将氩气解离成氩离子产生大量电子，后利用偏转磁场将电子束转弯并聚焦于靶锭将要镀膜物质加热并直接升华为气相。气相粒子经过等离子区高度解离成离子态，此时由反应腔室内布气气孔通入的反应气体也在此区域形成离子态。高游离状态的离子结合后沉积于基板，形成膜层。
2、目前由于该镀膜方式速度较快，为保证膜层性质的均匀性，对于反应区特别是等离子区的反应气体布气均匀性有较高要求，现有气路仅单路气体通入，不利于实现反应气体在等离子区的均匀分布，且不便于对缓冲器进行安装拆卸。因此，本领域技术人员提供了一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了解决现有技术中不利于实现反应气体在等离子区的均匀分布、不便于对缓冲器进行拆卸的问题，而提出的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构。
2、为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
3、一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，包括箱体，所述箱体背面设置有电子枪，所述箱体的内部设有工艺腔，还包括：
4、喷射组件，所述喷射组件包括多个设置在箱体工艺腔内壁的工艺气管以及可拆卸设置在箱体工艺腔内壁的缓冲器；
5、拆卸组件，所述拆卸组件设置在缓冲器和箱体之间，用
6、工艺管，所述工艺管包括第一气管以及设置在缓冲器上的第二气管，所述第一气管和第二气管之间设置有快插件，快插件用于对第一气管与第二气管进行快速插接。
7、作为本申请优选的技术方案，所述缓冲器前端表面开设有多个气孔，所述气孔的直径远大于靶灰直径。
8、作为本申请优选的技术方案，所述拆卸组件包括开设于缓冲器两端侧壁的第一螺纹孔、开设于箱体两端侧壁的第二螺纹孔以及螺纹连接在第一螺纹孔和第二螺纹孔之间的螺栓。
9、作为本申请优选的技术方案，所述快插件包括设置在第一气管外壁的第一固定板、开设于第一固定板下端的限位槽、开设于第一固定板侧壁的第一滑槽、开设于第一固定板底部的卡槽、设置在第一固定板侧壁的限位块、设置在限位块与第一固定板之间的活动杆、设置在活动杆杆壁的连接杆、设置在连接杆远离活动杆一端的推块、设置在活动杆端面的活动块、设置在第二气管外壁的第二固定板、设置在第二固定板顶部的第一固定块、滑动设置在第一固定块内部的卡块以及设置在卡块与第一固定块内壁之间的第二弹簧，其中，所述第一固定板的底部开设有限位槽，所述第一固定板侧壁开设有与连接杆和推块相配合的第一滑槽，所述第一固定板底部开设有与第一固定块相配合的卡槽。
10、作为本申请优选的技术方案，所述第二固定板的顶部设有第一弹簧，所述第一弹簧的顶部设有与限位槽相配合的挤压环。
11、作为本申请优选的技术方案，所述箱体前端铰接设置有箱门，所述箱门下端固定设置有透明窗口。
12、与现有技术相比，本技术提供了一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，具备以下有益效果：
13、1、通过喷射组件可以将气体均匀的喷射到箱体内侧的工艺腔中，实现了工艺气体在反应区域中均匀地与靶材反应，避免出现薄膜厚度不均匀，提高沉积薄膜的均匀性，提高镀膜过程的稳定性，减少薄膜的缺陷，提高薄膜的质量和可靠性，使镀膜材料利用率更高，减少废料产生，解决了现有技术中不利于实现反应气体在等离子区均匀分布的问题。
14、2、通过拆卸组件可实现对缓冲器和箱体进行拆卸，并且快插件可以对工艺气管和缓冲器进行快速安装拆卸，提高缓冲器固定的稳定性，同时便于对拆卸下来的缓冲器和工艺气管进行清洁、更换或修理，使其正常运行和延长使用寿命，解决了现有技术中不便于对缓冲器和工艺气管进行拆卸的问题。
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1.一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，包括箱体(1)，其特征在于，所述箱体(1)背面设置有电子枪(2)，所述箱体(1)的内部设有工艺腔，还包括：
2.根据权利要求1所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述缓冲器(3)前端表面开设有多个气孔(4)，所述气孔(4)的直径远大于靶灰直径。
3.根据权利要求1所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述拆卸组件包括开设于缓冲器(3)两端侧壁的第一螺纹孔(301)、开设于箱体(1)两端侧壁的第二螺纹孔(302)以及螺纹连接在第一螺纹孔(301)和第二螺纹孔(302)之间的螺栓(303)。
4.根据权利要求2所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述快插件包括设置在第一气管(5)外壁的第一固定板(6)、开设于第一固定板(6)下端的限位槽(601)、开设于第一固定板(6)侧壁的第一滑槽(602)、开设于第一固定板(6)底部的卡槽(603)、设置在第一固定板(6)侧壁的限位块(604)、设置在限位块(604)与第一
5.根据权利要求4所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述第二固定板(7)的顶部设有第一弹簧(701)，所述第一弹簧(701)的顶部设有与限位槽(601)相配合的挤压环(702)。
6.根据权利要求1所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述箱体(1)前端铰接设置有箱门(10)，所述箱门(10)下端固定设置有透明窗口(1001)，所述箱门(10)上端一侧固定设置有控制器(1002)。
...【技术特征摘要】
1.一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，包括箱体(1)，其特征在于，所述箱体(1)背面设置有电子枪(2)，所述箱体(1)的内部设有工艺腔，还包括：
2.根据权利要求1所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述缓冲器(3)前端表面开设有多个气孔(4)，所述气孔(4)的直径远大于靶灰直径。
3.根据权利要求1所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述拆卸组件包括开设于缓冲器(3)两端侧壁的第一螺纹孔(301)、开设于箱体(1)两端侧壁的第二螺纹孔(302)以及螺纹连接在第一螺纹孔(301)和第二螺纹孔(302)之间的螺栓(303)。
4.根据权利要求2所述的一种应用于反应式等离子体镀膜设备的新型气路结构，其特征在于，所述快插件包括设置在第一气管(5)外壁的第一固定板(6)、开设于第一固定板(6)下端的限位槽(601)、开设于第一固定板(6)侧壁的第一滑槽(602)、开设于第一固定板(6)底部的卡槽(603)、设置在第一固定板(6)侧壁的限位块(604)、设置在限位块(604)与第一固定板(6)之间的活动杆(605)、设置在活动杆(605)...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：仁烁光能苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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