【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及薄膜沉积设备，尤其涉及一种用于光学检测的晶圆支撑装置及其薄膜沉积设备。
技术介绍
1、在传统半导体工艺设备中，为了保证工艺均匀性，工艺腔室通常为空间高度对称的完全封闭式真空腔室，且空间紧凑，没有空间安装除工艺功能性结构外的其它装置，因此，其往往不具备光学检测窗口，没有条件进行光学检测。
2、但是，光学检测手段能够实时在线检测工艺腔室的一些重要参数，例如内壁温度、内壁形貌、清洗状态等。在线检测工艺腔室能够准确评估设备状态，并大幅减少设备维护时间。因此，针对封闭的工艺腔室需要设计光学检测的结构以实现内部参数检测。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种用于光学检测的晶圆支撑装置及其薄膜沉积设备，以解决现有工艺腔室无法设置光学检测单元的技术问题。
2、为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：
3、第一方面，本专利技术的实施例提供了一种用于光学检测的晶圆支撑装置，其包括：至少部分伸入工艺腔室的顶针，嵌设于所述顶针内的...
【技术保护点】
1.一种用于光学检测的晶圆支撑装置，其特征在于，包括：至少部分伸入工艺腔室的顶针，嵌设于所述顶针内的光纤束以及连接于所述光纤束的外侧端部的信号发射器和信号接收器，所述顶针内设有通孔，所述光纤束嵌设于所述通孔内，所述光纤束包括信号发射光纤和信号接收光纤，所述信号发射器连接于所述信号发射光纤，所述信号接收光纤连接于所述信号接收光纤。
2.一种用于光学检测的晶圆支撑装置，其特征在于，包括：部分伸入工艺腔室的若干顶针，嵌设于所述顶针内的光纤束，以及连接于所述光纤束的外侧端部的信号接收器；所述光纤束用于传导工艺腔室内的热辐射光，并由所述信号接收器采集并转换成对应工艺
【技术特征摘要】
1.一种用于光学检测的晶圆支撑装置，其特征在于，包括：至少部分伸入工艺腔室的顶针，嵌设于所述顶针内的光纤束以及连接于所述光纤束的外侧端部的信号发射器和信号接收器，所述顶针内设有通孔，所述光纤束嵌设于所述通孔内，所述光纤束包括信号发射光纤和信号接收光纤，所述信号发射器连接于所述信号发射光纤，所述信号接收光纤连接于所述信号接收光纤。
2.一种用于光学检测的晶圆支撑装置，其特征在于，包括：部分伸入工艺腔室的若干顶针，嵌设于所述顶针内的光纤束，以及连接于所述光纤束的外侧端部的信号接收器；所述光纤束用于传导工艺腔室内的热辐射光，并由所述信号接收器采集并转换成对应工艺腔室的温度值。
3.根据权利要求2所述的用于光学检测的晶圆支撑装置，其特征在于，至少一个所述光纤束的外侧端部还连接有信号发射器，所述信号发射器为激光发射器，所述激光发射器发射激光束由所述光纤束传导至工艺腔室，经工艺腔室反射后由另一所述光纤束传导至所述信号接收器，以对所述工艺腔室的内壁形貌进行检测。
4.根据权利要求3所述的用于光学检测的晶圆支撑装置，其特征在于，所述激光发射器为he-ne激光器。
5.根据权利要求2所述的用于光学检测的晶圆支撑装置，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：石劼霖，郭东，孙宏博，
申请(专利权)人：拓荆创益沈阳半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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