汽化过热装置和还原设备制造方法及图纸

技术编号:44655999 阅读:47 留言:0更新日期:2025-03-17 18:48
本申请提供一种汽化过热装置和还原设备,涉及多晶硅制备技术领域,以解决相关技术中汽化器和过热器的连接方式导致反应过程中三氯氢硅的损耗较多、以及设备成本较高的问题。汽化过热装置包括汽化器和过热器;汽化器包括汽化器壳体,汽化器壳体具有汽化器釜,过热器壳体具有过热器釜;汽化器壳体的排气口与过热器壳体的进气口连通;且,汽化器和过热器为一体件。本申请有助于缩短反应过程中三氯氢硅的反应路径,从而有益于降低三氯氢硅的损耗,提高三氯氢硅的利用率,进而提高反应效率,保证反应的稳定性;同时,本申请将过热器和汽化器组合为一台设备,实现一步汽化加过热,最大程度节约管道和设备成本,也有利于节约装置占地面积。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及多晶硅制备,尤其涉及一种汽化过热装置和还原设备


技术介绍

1、改良西门子方法生产多晶硅方法路线包括:利用氯化氢和工业硅粉在一定温度下反应生成三氯氢硅,同时利用冷氢化反应器,硅粉与还原尾气回收的四氯化硅、氯化氢以及氢气反应生成三氯氢硅,然后对三氯氢硅进行精馏提纯,提纯的三氯氢硅与氢气按照一定混合比例引入多晶硅还原炉,三氯氢硅被氢气还原成元素硅,并沉积在硅芯表面,逐渐生成所需规格的多晶硅。

2、还原装置内,常规的三氯氢硅汽化即过热流程为:液相三氯氢硅首先进入汽化器进行汽化,离开汽化器的气相三氯氢硅,再由管道进入过热器,经过热器过热后送还原炉进行反应。相关技术中,汽化器和过热器为独立的两台设备,汽化器和过热器之间通过管道相连。

3、然而,相关技术中,汽化器和过热器的连接方式,反应过程中三氯氢硅的损耗较多,三氯氢硅的利用率较低,同时,设备成本较高。


技术实现思路

1、本申请的实施例提供一种汽化过热装置和还原设备,有助于缩短反应过程中三氯氢硅的反应路径,从而有益于降低三氯氢硅的损耗,本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种汽化过热装置,其特征在于,包括汽化器和过热器;

2.根据权利要求1所述的汽化过热装置,其特征在于,所述汽化器壳体的排气口的直径与所述过热器壳体的进气口的直径相同,所述汽化器壳体的排气口和所述过热器壳体的进气口对接并耦合相连。

3.根据权利要求1所述的汽化过热装置,其特征在于,所述汽化器壳体的排气口的直径大于所述过热器壳体的进气口的直径;

4.根据权利要求1所述的汽化过热装置,其特征在于,所述汽化器壳体的排气口的直径小于所述过热器壳体的进气口的直径;

5.根据权利要求1-4中任一项所述的汽化过热装置,其特征在于,所述过热器的长度的延伸...

【技术特征摘要】

1.一种汽化过热装置,其特征在于,包括汽化器和过热器;

2.根据权利要求1所述的汽化过热装置,其特征在于,所述汽化器壳体的排气口的直径与所述过热器壳体的进气口的直径相同,所述汽化器壳体的排气口和所述过热器壳体的进气口对接并耦合相连。

3.根据权利要求1所述的汽化过热装置,其特征在于,所述汽化器壳体的排气口的直径大于所述过热器壳体的进气口的直径;

4.根据权利要求1所述的汽化过热装置,其特征在于,所述汽化器壳体的排气口的直径小于所述过热器壳体的进气口的直径;

5.根据权利要求1-4中任一项所述的汽化过热装置,其特征在于,所述过热器的长度的延伸方向和所述汽化器的长度的延伸方向处于同一水平面。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的汽化过热装置,其特征在于,所述过热器的长度的延伸方向和所述汽化器的长度的...

【专利技术属性】
技术研发人员:薛皓中赵国强葛蒙马迎杰段毓达柯曾鹏韦岗锁陈维平陈斌骆彩萍
申请(专利权)人:华陆工程科技有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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