一种主反射镜以及紫外线固化设备制造技术

本发明专利技术涉及紫外线固化技术领域，更具体地说，涉及一种主反射镜以及紫外线固化设备。本发明专利技术提供了一种主反射镜，应用于紫外线固化设备，所述主反射镜，用于反射紫外线固化光源发出的光线至半导体晶圆表面；所述主反射镜的内凹面的面型曲线符合特定的多项式曲面方程：所述多项式曲面方程，用于优化紫外线在半导体晶圆表面的光照均匀性。本发明专利技术提出的主反射镜以及紫外线固化设备，通过对主反射镜面型和反射率的优化，实现了UV光照的高均匀性和高效率，满足特定工艺规格要求的同时，提高了工艺效果和产品质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及紫外线固化，更具体地说，涉及一种主反射镜以及紫外线固化设备。

技术介绍

1、在uv cure(紫外固化)工艺中，光源的均匀性和效率是影响固化质量的重要因素。通常，uv cure设备用于半导体制造中的光刻胶固化、封装材料固化等工艺中，要求uv光在晶圆表面具有均匀的光强分布，以确保整个固化区域的固化效果一致。此外，uv cure工艺的精度还直接影响到后续的工艺步骤，因此对uv光源系统的设计和优化提出了很高的要求。

2、在uv cure设备中，紫外线固化光源产生的uv光通常通过主反射镜反射到待处理的晶圆表面，从而达到均匀照射的目的。

3、现有技术中主反射镜设计仍存在诸多不足，具体包括：

4、1)传统的平面、球面或抛物面反射镜难以实现大面积均匀照射。光在反射后会在晶圆表面形成不均匀的光斑，从而导致固化区域内的固化效果不一致。

5、2)主反射镜对uv光的反射率有限，部分光能在反射时损失，导致光源的能量浪费。此外，传统反射镜对光束的不同波段的反射控制能力较差，未能将光能高效集中在目标区域，进一步降低了光能利本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种主反射镜，应用于紫外线固化设备，其特征在于，所述主反射镜，用于反射紫外线固化光源发出的光线至半导体晶圆表面；

2.根据权利要求1所述的主反射镜，其特征在于，所述主反射镜的多项式曲面方程为五次多项式，对应表达式为：

3.根据权利要求2所述的主反射镜，其特征在于，所述多项式曲面方程的截距A为2.21195，各项系数值B1为1.29659，B2为0.04614，B3为7.59899E-04，B4为7.46533E-06，B5为3.06779E-08。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的主反射镜，其特征在于，所述主反射镜的反射率设置在特定范围，用于优...

【技术特征摘要】

1.一种主反射镜，应用于紫外线固化设备，其特征在于，所述主反射镜，用于反射紫外线固化光源发出的光线至半导体晶圆表面；

2.根据权利要求1所述的主反射镜，其特征在于，所述主反射镜的多项式曲面方程为五次多项式，对应表达式为：

3.根据权利要求2所述的主反射镜，其特征在于，所述多项式曲面方程的截距a为2.21195，各项系数值b1为1.29659，b2为0.04614，b3为7.59899e-04，b4为7.46533e-06，b5为3.06779e-08。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的主反射镜，其特征在于，所述主反射镜的反射率设置在特定范围，用于优化紫外波段的光线的反射效率。

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【专利技术属性】
技术研发人员：蒋天明，
申请(专利权)人：拓荆创益沈阳半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：