一种防止化学沉积的升降设备及半导体设备制造技术

本发明专利技术提供了一种防止化学沉积的升降设备及半导体设备，升降设备包括底座，用于连接反应腔；升降机构设于所述底座，升降机构包括升降杆，升降杆的顶部可延伸至反应腔内，用于带动位于所述反应腔内的隔板升降；密封管，可沿其轴向调节长度，密封管套设于所述升降杆，密封管具有第一连接端和第二连接端，所述第一连接端用于与所述反应腔密封连接，所述第二连接端与所述升降杆的底部密封连接；加热机构与所述升降机构连接，且套设于所述密封管，用于对所述密封管加热。本发明专利技术提供的升降设备避免了反应腔内的化学气体与密封管的内侧壁接触遇冷形成化学结晶沉积物的情况发生，从而保持了反应腔内的洁净度，避免反应腔内被污染，提高了设备的使用率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体加工设备，尤其涉及一种防止化学沉积的升降设备及半导体设备。

技术介绍

1、在半导体真空设备中，为了使反应腔内部化学气体能够导引到晶圆表面，并且为了方便机械手能取放晶圆，会在反应腔内设置可升降的隔板。具体的，将隔板与位于反应腔外部的升降机构连接，升降机构用于带动隔板在反应腔内进行升降动作。

2、目前，为了保证升降机构与反应腔配合连接处的密封性，会采用波纹管进行动态密封，将反应腔大气隔离。然而由于波纹管外置，波纹管所在的室温为23摄氏度，因此波纹管的温度也在23摄氏度左右，而反应腔内部工作时有化学气体，化学气体会进入波纹管的真空侧空间内，当化学气体接触到低于100℃的波纹管时，会在波纹管的内侧壁上出现化学结晶沉积物并吸附到波纹管的内侧壁。化学结晶沉积物会导致反应腔内的洁净度变差，会影响到机台正常运行，同时因为有沉积物，机台需要定期停机进行人工清洁，使其机台的使用率降低。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种防止化学沉积的升降设备及半导体设备，可保持反应腔内的洁净度，避免反本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种防止化学沉积的升降设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的升降设备，其特征在于，所述加热机构包括加热器；

3.根据权利要求2所述的升降设备，其特征在于，所述加热机构还包括导热套；

4.根据权利要求2或3所述的升降设备，其特征在于，所述升降机构还包括驱动器、滑动组件和连接座；

5.根据权利要求4所述的升降设备，其特征在于，所述滑动组件包括直线导轨和连接件；

6.根据权利要求5所述的升降设备，其特征在于，所述升降机构还包括第一限位件和第二限位件；

7.根据权利要求5所述的升降设备，其特征在于，所述升降机...

【技术特征摘要】

1.一种防止化学沉积的升降设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的升降设备，其特征在于，所述加热机构包括加热器；

3.根据权利要求2所述的升降设备，其特征在于，所述加热机构还包括导热套；

4.根据权利要求2或3所述的升降设备，其特征在于，所述升降机构还包括驱动器、滑动组件和连接座；

5.根据权利要求4所述的升降设备，其特征在于，所述滑动组件包括直线导轨和连接件；

6.根据权利要求5所述的升降设备，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：李军，
申请(专利权)人：宸微设备科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：