一种数据清洗方法、装置、设备、介质及产品制造方法及图纸

本申请公开了一种数据清洗方法、装置、设备、介质及产品，应用于光刻工艺领域。本方法先获取多个光刻建模数据，并采用适合光刻数据的距离度量方式确定各光刻建模数据之间的距离，进而基于各光刻建模数据之间的距离，对各光刻建模数据进行聚类处理，得到多个聚类集合。针对每个聚类集合，仅选取预设数量的光刻建模数据作为代表元素，并滤除除代表元素外的其余非代表元素。相较于传统手工筛选的方式，本方案在多个相似的元素仅选取了少量具有代表性的代表元素进行光刻建模，精准去除了光刻建模数据中的重复性和无用数据，大幅提高建模的准确性和效率；为计算光刻建模提供了高质量、精炼且具有代表性的数据，有力推动光刻工艺的优化和发展。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于光刻工艺领域，尤其涉及一种数据清洗方法、装置、设备、介质及产品。

技术介绍

1、在半导体制造的光刻工艺中，精确的建模对于优化光刻过程、提高芯片生产的质量和良率至关重要。随着光刻技术的不断发展，量测点的数量急剧增加，在处理包含大量量测点处的光刻建模数据时，所产生的数据不仅规模庞大，而且维度众多。这些光刻建模数据包含了丰富的信息，但同时也存在着大量的噪声、重复性数据等对建模无用的部分，需要对这部分无用信息进行清洗。

2、传统的光刻建模数据清洗方法，通常是在准备建模数据时，靠手工剔除坏点后进行随机筛选，从而完成数据清洗。在应对海量、高维且复杂的光刻建模数据时，这种方式往往显得力不从心。无法有效地识别和去除隐藏在数据深处的重复性信息和无用信息，导致建模过程中出现误差累积、计算资源浪费以及模型准确性和稳定性下降等问题。

技术实现思路

1、本申请实施例提供一种数据清洗方法、装置、设备、介质及产品，能够有效地识别和去除隐藏在数据深处的重复性信息和无用信息，保证正确稳定的光刻建模。</p>

2、一方本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种数据清洗方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的数据清洗方法，其特征在于，所述基于所述距离值，对各所述光刻建模数据进行聚类处理，得到多个聚类集合，包括：

3.根据权利要求2所述的数据清洗方法，其特征在于，所述基于所述距离值，逐步合并当前距离最小的各所述初始聚类集合，直至满足聚类终止条件，以得到多个所述聚类集合，包括：

4.根据权利要求3所述的数据清洗方法，其特征在于，所述聚类终止条件包括以下任意一项或任意组合：

5.根据权利要求1所述的数据清洗方法，其特征在于，所述针对每个所述聚类集合，选取预设数量的所述光刻建模数据作为代...

【技术特征摘要】

1.一种数据清洗方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的数据清洗方法，其特征在于，所述基于所述距离值，对各所述光刻建模数据进行聚类处理，得到多个聚类集合，包括：

3.根据权利要求2所述的数据清洗方法，其特征在于，所述基于所述距离值，逐步合并当前距离最小的各所述初始聚类集合，直至满足聚类终止条件，以得到多个所述聚类集合，包括：

4.根据权利要求3所述的数据清洗方法，其特征在于，所述聚类终止条件包括以下任意一项或任意组合：

5.根据权利要求1所述的数据清洗方法，其特征在于，所述针对每个所述聚类集合，选取预设数量的所述光刻建模数据作为代表元素，包括：

6.根据权利要求1至5任意一项所述的数据清洗方法，其特征在于，所述基于光刻建模...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵丰胜，王思琪，王航宇，尚念伟，
申请(专利权)人：东方晶源微电子科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：