温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请公开了一种数据清洗方法、装置、设备、介质及产品，应用于光刻工艺领域。本方法先获取多个光刻建模数据，并采用适合光刻数据的距离度量方式确定各光刻建模数据之间的距离，进而基于各光刻建模数据之间的距离，对各光刻建模数据进行聚类处理，得到多个聚...
该专利属于东方晶源微电子科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东方晶源微电子科技（上海）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。