【技术实现步骤摘要】
本申请涉及单晶生长领域，尤其是涉及一种水冷热屏、单晶炉以及拉晶方法。
技术介绍
1、在单晶炉
，水冷热屏作为一种关键的换热装置，其重要性不言而喻。单晶炉，作为半导体和光伏等领域的核心设备，通过直拉法将多晶材料熔化并生长出高质量的单晶材料。然而，单晶炉内部的高温环境不仅要求精确的温度控制以保证单晶的生长质量，还需保护炉内元件免受高温损害。水冷热屏正是为解决这一问题而设计的，它利用水的优良热传导性，通过复杂的冷却系统，如导流板和冷却管，将高温工作介质迅速降温并循环使用，从而有效调控单晶炉内部的温度场。
2、在现有技术中，水冷热屏作为单晶炉内至关重要的温度调控结构，水冷热屏的安装与焊接的精度直接关联到单晶炉内部热场的稳定性；然而，由于加工、安装过程中的多种因素，如水冷热屏组件间的焊接精度不足、安装位置的微小偏差等，这些问题往往难以完全避免；这些位置偏差会直接导致水冷热屏在单晶炉内的工作效能下降，进而引发热场紊乱现象，从而导致晶体生长品质较低。
3、因此，现有技术的技术问题在于：晶体生长品质较低。
【技术保护点】
1.一种水冷热屏，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种水冷热屏，其特征在于，所述调整件为柔性，所述调整件至少具有两个，所述第一部分和所述第二部分分别连接有至少一个所述调整件。
3.根据权利要求1所述的一种水冷热屏，其特征在于，所述调整件为柔性，所述调整件至少具有三个，所述第一部分和所述第二部分中的至少一者连接有至少两个所述调整件。
4.根据权利要求2或3所述的一种水冷热屏，其特征在于，多个所述调整件均匀布设于所述水冷热屏本体。
5.一种单晶炉，其特征在于，包括主炉室，所述主炉室包括：
6.根据权利...
【技术特征摘要】
1.一种水冷热屏，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种水冷热屏，其特征在于，所述调整件为柔性，所述调整件至少具有两个，所述第一部分和所述第二部分分别连接有至少一个所述调整件。
3.根据权利要求1所述的一种水冷热屏，其特征在于，所述调整件为柔性，所述调整件至少具有三个，所述第一部分和所述第二部分中的至少一者连接有至少两个所述调整件。
4.根据权利要求2或3所述的一种水冷热屏，其特征在于，多个所述调整件均匀布设于所述水冷热屏本体。
5.一种单晶炉，其特征在于，包括主炉室，所述主炉室包括：
6.根据权利要求5所述的一种单晶炉，...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹建伟，朱亮，阮文星，倪军夫，梁晋辉，
申请(专利权)人：浙江晶盛机电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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