【技术实现步骤摘要】
本申请涉及一种靶材制造设备，更具体地说它涉及一种靶材表面抛光装置。
技术介绍
1、目前，采用等离子喷涂工艺生产的靶材，其表面比较粗糙，因此一般需要对其表面进行抛光，以此达到工艺所要求的光洁度。现有的抛光方法有手动抛光和气动抛光，但手动抛光效率低，劳动强度大且抛光不均匀；气动抛光，则是跳动大，容易把涂层过量磨掉或导致涂层厚度不均。
2、基于上述，如何解决抛光不均匀和抛光效率低，已经成为了本领域技术人员迫切需要解决的问题。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种靶材表面抛光装置，其优点在于可以在满足抛光均匀性的同时，提高靶材抛光的效率。
2、为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：一种靶材表面抛光装置，包括：
3、行走机架，所述行走机架用于放置靶材；
4、抛光轨道滑台，所述抛光轨道滑台位于行走机架上，且与所述行走机架相垂直；
5、砂带组件，所述砂带组件位于抛光轨道滑台上，用于对靶材表面进行抛光；
<...【技术保护点】
1.一种靶材表面抛光装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种靶材表面抛光装置，其特征在于：所述砂带组件(3)包括砂带(31)、主动轮(32)、张紧轮(33)、砂带固定座(34)、砂带驱动电机(35)、砂带张紧机构(36)以及砂带调整机构(37)，所述主动轮(32)通过砂带(31)与所述张紧轮(33)传动连接，所述主动轮(32)的高度低于张紧轮(33)的高度，所述砂带驱动电机(35)用于驱动主动轮(32)转动，所述砂带调整机构(37)用于调整砂带(31)的水平位置。
3.根据权利要求2所述的一种靶材表面抛光装置，其特征在于：所述砂带...
【技术特征摘要】
1.一种靶材表面抛光装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种靶材表面抛光装置，其特征在于：所述砂带组件(3)包括砂带(31)、主动轮(32)、张紧轮(33)、砂带固定座(34)、砂带驱动电机(35)、砂带张紧机构(36)以及砂带调整机构(37)，所述主动轮(32)通过砂带(31)与所述张紧轮(33)传动连接，所述主动轮(32)的高度低于张紧轮(33)的高度，所述砂带驱动电机(35)用于驱动主动轮(32)转动，所述砂带调整机构(37)用于调整砂带(31)的水平位置。
3.根据权利要求2所述的一种靶材表面抛光装置，其特征在于：所述砂带张紧机构(36)包括张紧轴承座(361)、张紧手轮(362)以及张紧机架(363)，所述张紧轮(33)的中心轴通过轴承和张紧轴承座(361)固定在所述张紧机架(363)上，所述张紧轮(33)的中心轴为可伸缩的套筒结构，所述张紧手轮(...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴智良，洪小平，
申请(专利权)人：厦门盛楠等离子应用科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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