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本申请公开了一种靶材表面抛光装置，涉及一种靶材制造设备，其技术方案要点包括：行走机架，所述行走机架用于放置靶材；抛光轨道滑台，所述抛光轨道滑台位于行走机架上，且与所述行走机架相垂直；砂带组件，所述砂带组件位于抛光轨道滑台上，用于对靶材表面进...
该专利属于厦门盛楠等离子应用科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门盛楠等离子应用科技有限公司授权不得商用。

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