真空测量系统技术方案

本发明专利技术的真空测量系统能够利用一个传感器来使测量精度稳定化而测定更宽的压力范围。测定电路(104)基于隔膜(102)的位移来求出隔膜(102)所受到的压力值。修正电路(105)在测定电路(104)所求出的压力值比所设定的基准值大的范围内，以与比基准值小的范围不同地设定的条件来修正压力值。所设定的条件例如可设为根据压力值来求出修正值的函数(转换式)。基准值例如可设为在隔膜(102)(可动电极(107))开始接触到固定部(101)(固定电极(106))的时间点由测定电路(104)所求出的压力值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种真空测量系统。

技术介绍

1、有一种压力传感器，其包括中央部的第一隔膜部、包围第一隔膜部的中央壁厚部及中央壁厚部周围的第二隔膜部(专利文献1)。所述压力传感器通过第二隔膜部的位移来测定第一压力范围，在中央壁厚部抵接至底座之后，通过第一隔膜部的位移来测定第二压力范围。通过像这样在一个传感器中设置对多个压力范围进行测定的部分，能够利用一个传感器来进行更宽的压力范围的测定，从而可获得紧凑化的效果。

2、[现有技术文献]

3、[专利文献]

4、专利文献1：日本专利特开平4-178533号公报

技术实现思路

1、[专利技术所要解决的问题]

2、但是，当前伴随半导体制造装置的控制技术的高度化要求，对于压力传感器，除了紧凑化以外，还要求面向测量精度的稳定化的改善。

3、本专利技术是为了解决如上所述的问题而完成，目的在于能够利用一个传感器来使测量精度稳定化而测定更宽的压力范围。

4、[解决问题的技术手段]

>5、本专利技术的真本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空测量系统，包括：

2.根据权利要求1所述的真空测量系统，其中

3.根据权利要求1或2所述的真空测量系统，其包括：

4.根据权利要求3所述的真空测量系统，其中

【技术特征摘要】

1.一种真空测量系统，包括：

2.根据权利要求1所述的真空测量系统，其中

3....

【专利技术属性】
技术研发人员：添田将，石原卓也，
申请(专利权)人：阿自倍尔株式会社，
类型：发明
国别省市：

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