【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种氧化层去除及洁净浸润的工艺，特别涉及一种改善金属钨丝表面流体浸润性的预处理工艺。
技术介绍
1、金属钨表面形成氧化层（wo3、wo2 及中间体氧化物won，其中n在2-3之间），氧化钨严重影响钨表面的浸润性，影响表面的流体均匀度及覆盖率。
2、金属钨的表面浸润性改善能够改善解决长时间工作状态下的液态金属附着能力，提升电极发射系统的稳定性工作表现。
3、因此，特别需要一种改善金属钨丝表面流体浸润性的预处理工艺，以解决上述现有存在的问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种改善金属钨丝表面流体浸润性的预处理工艺，针对现有技术的不足，有效地去除钨丝表面氧化层，同时在氮气环境下保护钨丝再次氧化，调节降温参数，提升表面流体的覆盖率及覆盖均匀度。
2、本专利技术所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现：
3、一种改善金属钨丝表面流体浸润性的预处理工艺，包括如下步骤：
4、s1、洗液浸泡：将金属钨丝置于洗液中浸泡...
【技术保护点】
1.一种改善金属钨丝表面流体浸润性的预处理工艺，其特征在于，包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的改善金属钨丝表面流体浸润性的预处理工艺，其特征在于，步骤S1中，所述洗液包括质量百分比的如下组分：双氧水0.1%-3%，IA族金属氢氧化物0.1%-3%，氨水0.1%-3%，一元醇0.1%-3%，溶剂为去离子水。
3.如权利要求1所述的改善金属钨丝表面流体浸润性的预处理工艺，其特征在于，所述流体包括液态金属镓、液态金属铷和液态金属铯。
【技术特征摘要】
1.一种改善金属钨丝表面流体浸润性的预处理工艺，其特征在于，包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的改善金属钨丝表面流体浸润性的预处理工艺，其特征在于，步骤s1中，所述洗液包括质量百分比的如下组分：双氧水0.1%-3%，...
【专利技术属性】
技术研发人员：余学鹏，崔树静，王宁，李冰，张金霞，
申请(专利权)人：无锡纳斯凯半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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