FDSOI器件交流小信号与NBTI效应联合仿真方法技术

技术编号:43954202 阅读:23 留言:0更新日期:2025-01-07 21:40
本发明专利技术公开了一种FDSOI器件交流小信号与NBTI效应联合仿真方法,涉及半导体器件技术领域,该方法包括:建模得到二维器件结构初始模型,对所建立的模型进行校准;对校准后的模型进行混合模式下的交流小信号仿真,得到反应交流小信号特性的第一特性曲线;对校准后的模型设置陷阱退化参数,得到器件真实情况下NBTI的退化情况;进行NBTI效应和交流小信号的联合仿真,得到NBTI效应作用后的交流小信号特性的第二特性曲线,通过对比两条特性曲线,明确NBTI效应对交流小信号特性的影响。本发明专利技术通过联合仿真方法,提高了收敛性,同时通过校准的器件结构和退化参数,可准确地反应NBTI效应对交流小信号特性的影响。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体器件,具体涉及一种fdsoi(fully depleted siliconon insulator,全耗尽绝缘体上硅)器件交流小信号与nbti(negative bias temperatureinstability负偏压温度不稳定)效应联合仿真方法。


技术介绍

1、近年来,半导体集成电路行业快速发展,器件尺寸不断缩小以及栅氧化层的厚度不断减薄,器件的可靠性问题越来越严重,包括负偏压温度不稳定(nbti)、热载流子注入(hci)、总剂量效应(tid)以及经时击穿(tddb)等问题,而nbti效应已经成为cmos(complementary metal oxide semiconductor,互补金属氧化物半导体)技术中存在的主要可靠性问题,会对器件的使用寿命产生一定影响,因此对于nbti效应的研究变得越来越重要。

2、目前,fdsoi器件已经广泛应用,相较于体硅器件,fdsoi器件可以增强栅控能力并且减少栅极漏电流,并且具有较低功耗的特点。有研究表明,fdsoi器件的nbti效应相较于体硅器件更为严重,由于fdsoi器件具有本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种FDSOI器件交流小信号与NBTI效应联合仿真方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的FDSOI器件交流小信号与NBTI效应联合仿真方法,其特征在于,建立的二维器件结构初始模型,包括:

3.根据权利要求1所述的FDSOI器件交流小信号与NBTI效应联合仿真方法,其特征在于,对所述二维器件结构初始模型进行模型参数修正,得到二维器件结构校准模型,包括:

4.根据权利要求3所述的FDSOI器件交流小信号与NBTI效应联合仿真方法,其特征在于,所述模型参数包括:栅极功函数、源漏掺杂浓度、沟道掺杂浓度和LDD掺杂浓度。>

5.根据权利...

【技术特征摘要】

1.一种fdsoi器件交流小信号与nbti效应联合仿真方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的fdsoi器件交流小信号与nbti效应联合仿真方法,其特征在于,建立的二维器件结构初始模型,包括:

3.根据权利要求1所述的fdsoi器件交流小信号与nbti效应联合仿真方法,其特征在于,对所述二维器件结构初始模型进行模型参数修正,得到二维器件结构校准模型,包括:

4.根据权利要求3所述的fdsoi器件交流小信号与nbti效应联合仿真方法,其特征在于,所述模型参数包括:栅极功函数、源漏掺杂浓度、沟道掺杂浓度和ldd掺杂浓度。

5.根据权利要求1所述的fdsoi器件交流小信号与nbti效应联合仿真方法,其特征在于,在sdevice中对所述二维器件结构校准模型进行交流小信号仿真,得到第一特性曲线,包括:

6.根据权利要求5所述的fdsoi器件交流小信号与nbti效应联合仿真方法,其特征在于,所述coupled部分包括:所述二维器件结构校准模型的栅极扫描电压和漏极电压;

7.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘红侠于浩王树龙陈树鹏
申请(专利权)人:西安电子科技大学
类型:发明
国别省市:

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