【技术实现步骤摘要】
本技术涉及镁靶材清洗，具体为一种镁靶材清洗装置。
技术介绍
1、镁靶材，主要由镁（mg）构成，是为了满足特定物理薄膜沉积工艺而制备的材料。纯度通常达到99.99%或更高。镁是地壳中含量第八的元素，其密度为1.74 g/cm³，属于轻金属。它的熔点为650℃，且在常温下，会在表面形成一层稳定的氧化物薄膜，这使得镁对大多数工业环境具有良好的耐腐蚀性。其导电性能良好，电导率约为22.4 ms/m，而且镁在常温下与其他元素的化合能力强，特别是与氧、氮和硫。这使得镁靶材在薄膜制备中具有独特的应用价值，特别是在需要镁化合物薄膜的领域。
2、现有镁靶材清洗装置缺少对清洗液进行过滤的装置，使清洗液中含有灰尘和杂质，清洗液循环清洗使用效果变差，因此需要一种镁靶材清洗装置对上述问题做出改善。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种镁靶材清洗装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
3、一种镁靶材清洗装置，包括储水箱，所述储水箱...
【技术保护点】
1.一种镁靶材清洗装置，包括储水箱（1），其特征在于：所述储水箱（1）的端面上且位于拐角处安装有支撑柱（2），四个所述支撑柱（2）的上端通过清洗箱（3）连接，所述清洗箱（3）的底部通过连接孔安装有排水管（4），所述排水管（4）的下端通过接头连接有连接件（5），所述连接件（5）的内壁上安装有过滤网（6），所述连接件（5）的下端通过接头连接有连接管（7），所述连接管（7）的另一端通过接头连接有过滤管（8），所述过滤管（8）的内壁上安装有固定板（9），所述固定板（9）上开设有进水孔（10），所述固定板（9）的端面上设置有pp滤芯（11），所述储水箱（1）的左侧壁上安装有安装...
【技术特征摘要】
1.一种镁靶材清洗装置，包括储水箱（1），其特征在于：所述储水箱（1）的端面上且位于拐角处安装有支撑柱（2），四个所述支撑柱（2）的上端通过清洗箱（3）连接，所述清洗箱（3）的底部通过连接孔安装有排水管（4），所述排水管（4）的下端通过接头连接有连接件（5），所述连接件（5）的内壁上安装有过滤网（6），所述连接件（5）的下端通过接头连接有连接管（7），所述连接管（7）的另一端通过接头连接有过滤管（8），所述过滤管（8）的内壁上安装有固定板（9），所述固定板（9）上开设有进水孔（10），所述固定板（9）的端面上设置有pp滤芯（11），所述储水箱（1）的左侧壁上安装有安装板（12），所述安装板（12）的端面上安装有水泵（13），所述水泵（13）的前端通过接头连接有第一水管（14），所述水泵（13）的后端通过接头连接有第二水管（15）。
2.根据权利要求1所述的一种镁靶材清洗装置，其特征在于：所述储...
【专利技术属性】
技术研发人员：王永超，赵泽良，贾时君，卢俊男，李心然，冯越，郭薛可，王静，段于奇，王天会，李洋洋，陈渊博，张亚萌，张霖，
申请(专利权)人：河南东微电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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