基材处理方法技术

技术编号:43879344 阅读:31 留言:0更新日期:2024-12-31 19:02
本发明专利技术的目的在于提高一种具有防反射膜的基材的新型表面处理方法。本发明专利技术的具有防反射膜的基材的处理方法包括:实施使防反射膜的表面的至少一部分的区域平滑的处理的工序;在上述使防反射膜的表面的至少一部分的区域平滑的处理后的防反射膜的表面形成含有SiO2的层的工序;和在上述含有SiO2的层的表面的至少一部分的区域适用表面处理剂,形成表面处理层的工序。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及基材处理方法


技术介绍

1、作为具有防反射膜的基材的处理方法,已提出有各种方法。

2、专利文献1中记载了对玻璃基板施加1个功能层,将该玻璃基板通过离子交换进行化学强化等内容,作为将功能层的表面活性化的方法之一,记载了利用氧等离子体进行处理的方法。

3、专利文献2和3中记载了对防反射膜表面进行等离子体处理后,使用含氟硅烷化合物进行处理的内容。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1:日本特表2017-528411号公报

7、专利文献2:中国公开第112267093号公报

8、专利文献3:国际公开第3033/014566号


技术实现思路

1、专利技术所要解决的课题

2、本专利技术的目的在于提供一种具有防反射膜的基材的新型表面处理方法。

3、用于解决课题的技术方案

4、本专利技术提供以下的实施方式。

5、[1]一种具有防反射膜的基材的处理方法,其中,包括:...

【技术保护点】

1.一种具有防反射膜的基材的处理方法,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

3.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

4.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

5.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

6.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

7.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

8.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

9.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

10.如权利要求1~9中任一项所述的处理方法,其特征在于:<...

【技术特征摘要】

1.一种具有防反射膜的基材的处理方法,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

3.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

4.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

5.如权利要求1所述的处理方法,其特征在于:

6.如权利要求1所述的处理...

【专利技术属性】
技术研发人员:汤紫珺黄盛辉福田矩章前平健吉田知弘
申请(专利权)人:大金工业株式会社
类型:发明
国别省市:

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