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文档序号:43879344
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本发明的目的在于提高一种具有防反射膜的基材的新型表面处理方法。本发明的具有防反射膜的基材的处理方法包括:实施使防反射膜的表面的至少一部分的区域平滑的处理的工序;在上述使防反射膜的表面的至少一部分的区域平滑的处理后的防反射膜的表面形成含有Si...
该专利属于大金工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过大金工业株式会社授权不得商用。
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