一种金属薄带双面高效CVD连续镀膜系统及方法技术方案

本发明专利技术提供一种金属薄带双面高效CVD连续镀膜系统及方法，涉及薄膜制备技术领域，镀膜系统的主要结构为：两个卷绕盘之间设置正电极组和负电极组，正、负电极组之间具有薄膜沉积区；正、负电极组中每一对夹持电极的上、下两个夹持电极与金属薄带的上下表面边缘形成电接触；射频电流源连接到相对设置于衬底通道两侧的至少一对射频电极，两个CVD前驱体喷淋头设置在薄膜沉积区衬底通道的上、下方，两个防沉积保护件设置在正、负电极组之间的衬底通道两侧且位于一对射频电极之间。本发明专利技术通过金属薄带通电自加热装置提供稳定电流产生的焦耳热来快速达到镀膜所需温度，能提高前驱体粒子在金属薄带表面利用率，改善成膜质量同时提升镀膜速率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜制备，尤其涉及一种金属薄带双面高效cvd连续镀膜系统及方法。

技术介绍

1、薄膜技术的应用十分广泛，涵盖光学、电子、医疗、能源等多个领域，因此高质量薄膜的高效制备对于科学研究和工业应用具有重要意义。

2、化学气相沉积(cvd)指将含有成膜元素前驱体的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。其因成膜材料组分可按任意比例组成，成膜速率快，均匀性好，可实现大面积薄膜制备等优点而更容易形成产业化技术。在cvd薄膜制备中，沉积温度是影响薄膜质量的关键因素之一。沉积温度的变化不仅会导致薄膜的生长速率和形貌发生变化，还会影响薄膜的结晶度和结构完整性。因此，在薄膜生长过程中需要选择合适的沉积温度，以确保薄膜结构和质量的稳定性。

3、目前制备薄膜的加热方式主要有热传导式加热、感应式加热、辐射式加热、通电自加热。热传导式加热，通常是向电阻较大的电热丝通入大电流，其短时间会产生大量焦耳热，然后再将热量传递到衬底上。优点是原理简单，应用环境较为广泛；缺点是升温较慢、能耗高、对大面积大体积衬底加热不均匀。感应本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种金属薄宽带双面高效CVD连续镀膜系统，其特征在于，包括卷绕盘(1)、金属薄带通电自加热装置、等离子辅助镀膜装置、CVD前驱体喷淋头(17)、防沉积保护件(18)，其中：

2.根据权利要求1所述的一种金属薄宽带双面高效CVD连续镀膜系统，其特征在于：所述电流分配电路为串联的分流电阻(6)，各对夹持电极(10)分别连接于相邻分流电阻(6)的连接点和电阻串的两端。

3.根据权利要求2所述的一种金属薄宽带双面高效CVD连续镀膜系统，其特征在于：所述分流电阻(6)为线绕电阻、碳膜电阻、金属膜电阻中的一种。

4.根据权利要求1所述的一种金属薄宽带双面高效C...

【技术特征摘要】

1.一种金属薄宽带双面高效cvd连续镀膜系统，其特征在于，包括卷绕盘(1)、金属薄带通电自加热装置、等离子辅助镀膜装置、cvd前驱体喷淋头(17)、防沉积保护件(18)，其中：

2.根据权利要求1所述的一种金属薄宽带双面高效cvd连续镀膜系统，其特征在于：所述电流分配电路为串联的分流电阻(6)，各对夹持电极(10)分别连接于相邻分流电阻(6)的连接点和电阻串的两端。

3.根据权利要求2所述的一种金属薄宽带双面高效cvd连续镀膜系统，其特征在于：所述分流电阻(6)为线绕电阻、碳膜电阻、金属膜电阻中的一种。

4.根据权利要求1所述的一种金属薄宽带双面高效cvd连续镀膜系统，其特征在于，所述正电极组(2)的具体结构为：

5.根据权利要求4所述的一种金属薄宽带双面高效cvd连续镀膜系统，其特征在于：所述电极片的材料为ag-w合金、ag-wc合金、ag-cu合...

【专利技术属性】
技术研发人员：陶伯万，赵明原，赵睿鹏，陈曦，李禛哲，朱泓旭，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：