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本发明提供一种金属薄带双面高效CVD连续镀膜系统及方法，涉及薄膜制备技术领域，镀膜系统的主要结构为：两个卷绕盘之间设置正电极组和负电极组，正、负电极组之间具有薄膜沉积区；正、负电极组中每一对夹持电极的上、下两个夹持电极与金属薄带的上下表面边...
该专利属于电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学授权不得商用。

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